主题:【讨论】如果直读光谱仪的光学室被油污染,如何处理?

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wccd
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如果直读光谱仪的光学室被油污染,光栅也肯定被污染,如何处理?
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amanlaile
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没遇到过这种情况,不知道用丙酮擦洗效果会不会好一些?
Insp_808c73ff
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原文由 amanlaile(amanlaile) 发表:
没遇到过这种情况,不知道用丙酮擦洗效果会不会好一些?
其他都好办,就是光栅无法清洗,这是一个很专业的难题,一般业余或非专业的是无法真正搞定的。
wccd
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一种光谱类仪器中反射光栅清洗装置:

该装置设有支架,支架设有立柱、横向螺杆、控制箱及控制开关,立柱和螺杆在控制箱内交插穿过,在该控制箱内设有控制螺杆左右移动、上下移动和上下旋转的可控机械执行部件,所述螺杆端头设置的夹子用来夹持反射光栅,在反射光栅位置的上方,设有清洗剂罐和去离子水罐
,在清洗剂罐和去离子水罐中设有可控加热和温度调控器及温度传感器、可控增压和压力调节器、可控开关冲洗管及流量调节器;另外设有给射光栅加热的可控加热器;在反射光栅位置的下方设有集液和排液槽。



本装置适用于反射光栅和其他光学器件的清洗,结构简单而完善,利用表面活性剂的特性,通过主控箱(1)控制适当的温度和适当的冲洗方式和冲洗时间,能手控和自控操作,能获得理想的清洁效果。




1、一种光谱类仪器中反射光栅清洗装置,其特征是:设有支架,该支架设有带底座的立 柱(4)、前端带有夹子(15)的横向螺杆(2)和控制箱(3)和控制开关,所述立柱和螺杆在控制 箱内交插穿过,在该控制箱内设有控制螺杆左右移动、上下移动和上下旋转的可控机械执 行部件,所述螺杆端头设置的夹子用来夹持反射光栅(16),在反射光栅位置的上方,设有清洗剂 罐(9)和去离子水罐(10),在清洗剂罐和去离子水罐中设有可控加热和温度调控器及温度 传感器(11、12)、可控增压和压力调节器(7、8)、可控开关冲洗管及流量调节器(5、6);另外 设有给射光栅加热的可控加热器(13?:图中没有13);在反射光栅位置的下方设有集液和排液槽(14)。

2. 根据权利要求1所述的清洗装置,其特征是:所述控制箱的可控机械执行部件为电机 和配套传动部件,开关控制功能为手动控制,所述控制开关为手动控制杆;所述加热器为加热吹风机。

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2021/4/10 23:46:23 Last edit by wccd
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