主题：【已应助】质谱解析不出目标化合物该怎么办

原文由 深蓝(mitsumi) 发表:这个就是硫，单质硫。硫是底泥中常见的污染物，也是SVOC检测中比较常见的干扰物质，一般是前处理净化时候加铜粉去除，如果不去除会有比较严重的干扰，也就是覆盖了你的多环芳烃离子碎片。可参考HJ834做相关的净化。

原文由 myoldid(v2963297) 发表:你识别出来的化合物不是你想要的，有多种可能1. 谱库没选对，一些专有谱库包含的化合物条目少，可能导致识别失败。选择正确的谱库，推荐使用NIST的库2. Scan扫描时，范围没设置够，导致部分过低，过高质量的没采集到。需要重新采集3. 有本底干扰，也就是系统有污染。需要从真空度，离子源，倍增管，打拿极等排查。简单的方法就是做调谐评估，确认调谐没问题4. 有共流出，也就是没分开。可以用解卷积看看有没混在一起的峰。也可以用未知物分析软件查看5. 设置模式为sim，选择扫描你的目标化合物的离子，看能不能正常出峰。前两天我就遇到过scan响应值很低，基线干扰很大，但sim完全正常的情况，这需要请教工程师来排查了。

原文由 lhl(lhl8595) 发表:可以参考帖子https://bbs.instrument.com.cn/topic/7634050_1。1 未正确扣除背景。2 样品浓度低，受到基线或者杂质干扰。3 浓度太高，离子饱和，质谱图失真。4 scan设置范围不够，导致比对不上。5 与其他物质出在一起了。需要使用碎片来区别。

原文由 Ins_65d41b10(Ins_65d41b10) 发表:
净化过柱时加了铜粉，为什么还是有这么多含硫物质呢

原文由 深蓝(mitsumi) 发表:含硫高，铜粉加的少，你在多加点，具体描述一下你是怎么操作的

原文由 Ins_65d41b10(Ins_65d41b10) 发表:
净化柱最底层加了约1.5厘米的无水硫酸钠除水，中间大概12厘米的硅酸镁吸附剂，上层是约2厘米的铜粉，用正己烷溶液浸没

原文由 Ins_65d41b10(Ins_65d41b10) 发表:
净化柱最底层加了约1.5厘米的无水硫酸钠除水，中间大概12厘米的硅酸镁吸附剂，上层是约2厘米的铜粉，用正己烷溶液浸没

原文由 深蓝(mitsumi) 发表: 你可以试试我这个方法：净化柱上面依次硅酸镁-2cm铜粉-无水硫酸钠-2cm铜粉