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ID:majunia
行业:其他
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ID:happyjyl
ID:yaya91
原文由 yaya91 发表:第3篇是有机挥发性物质,也就是残留溶剂的测定。Organic volatile impurities, Method IV 467 : meets the requirements. Residual solvents 467 : meets the requirements. 对这个标准有点看不懂,感觉是重复了。
ID:redanqi
原文由 majunia 发表:不知版主是否有看清楚,你给我的是Silicon Dioxide SiO2xH2O Anhydrous 60.08 ,我要的是Colloidal Silicon Dioxide SiO2 60.08 Silica,在USP中是2个东西,不一样的。我看了和我要的项目和操作都有不一样的。
原文由 majunia 发表:如题,急求气相二氧化硅的中文译稿,附上英文版[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp]气相二氧化硅[/url]USP砷检查法英文版易挥发物
原文由 redanqi 发表:原文由 majunia 发表:如题,急求气相二氧化硅的中文译稿,附上英文版[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp]气相二氧化硅[/url]USP砷检查法英文版易挥发物 楼主后面两个附件也是需要翻译的?
原文由 redanqi 发表:楼主后面两个附件也是需要翻译的?