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主题：【求助】高纯硅中P和B的检测方法

浏览0 回复43 电梯直达
枪手怪蜀黍
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发表于：2008/04/07 11:28:00 楼主 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
在高纯硅中P和B的前处理方法,由于各种原因P和B都无法测到很好,请教P和B的前处理方法
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jiangyunjun3
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2008/4/8 7:28:36 沙发 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
你好,又见面了.P还好说,HF除硅后,硝酸浸取.B难处理,我们一般用发射光谱直接测定,可测Xmg/kg.
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chauchylan
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2008/4/8 8:20:58 板凳 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
高纯硅中P和B的检测方法最好的还是用GD-MS进行分析,结果要比ICP-MS可信度高..
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枪手怪蜀黍
septyaya
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2008/4/8 11:05:15 马扎 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
GD-MS只是传说中的仪器，我们只有ICP-MS，就拿ICP-MS说事吧，没有机会用到的仪器还是别提了。怎么有效防止BF3的挥发才是根本
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kiwi-kids
zhengxxx
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2008/4/8 14:44:44 地毯 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
原文由 septyaya 发表:
GD-MS只是传说中的仪器，我们只有ICP-MS，就拿ICP-MS说事吧，没有机会用到的仪器还是别提了。怎么有效防止BF3的挥发才是根本


低温消解，硅粉硝酸溶液，加一点氢氟酸
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风起云飘舞
zhckj
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2008/4/8 19:00:12 地板 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
双氧水、硝酸、氢氟酸，通通试试看，呵呵总会成功的
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kiwi-kids
zhengxxx
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2008/4/8 19:03:57 6楼 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
原文由 zhckj 发表:
双氧水、硝酸、氢氟酸，通通试试看，呵呵总会成功的


硅表面杂质分析一般是用稀混酸低温长时间溶解
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chauchylan
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2008/4/8 19:08:45 7楼 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
还没有实际分析过...

前处理好像是用微波密闭加酸消解吧...

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chauchylan
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2008/4/8 19:12:19 8楼 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
原文由 zhengxxx 发表:
原文由 zhckj 发表:
双氧水、硝酸、氢氟酸，通通试试看，呵呵总会成功的


硅表面杂质分析一般是用稀混酸低温长时间溶解


硅表面杂质分析,若有条件的话,可以用LA-ICP-MS试试..
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kiwi-kids
zhengxxx
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2008/4/8 19:16:06 9楼 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
原文由 chauchylan 发表:
原文由 zhengxxx 发表:
原文由 zhckj 发表:
双氧水、硝酸、氢氟酸，通通试试看，呵呵总会成功的


硅表面杂质分析一般是用稀混酸低温长时间溶解


硅表面杂质分析,若有条件的话,可以用LA-ICP-MS试试..


按照SEMI的标准方法是石墨炉和ICPMS，可以做到最高7个9左右
现在还有很多用的是VPD－ICPMS
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chauchylan
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2008/4/9 18:35:53 10楼 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
在ICP-OES中好像有加甘露醇防止BF3的挥发,可以试一试..
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