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主题：ICP-MS中的Plasmalok™接口专利技术

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licuanlilili
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发表于：2005/02/24 14:22:00 楼主 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
各位老师，PE的ICP-MS中谈到的Plasmalok™专利技术，消除锥口二次电弧放电是怎么做事？哪位老师能谈一下？谢谢！
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2005/2/25 14:01:00 沙发 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
在李冰老师翻译的<<等离子体质谱手册>>中有介绍, 一般的ICP-MS的ICP的RF的工作线圈是靠近锥的一端是接地的,另一端是大功率的RF,而Plasmalok是工作线圈的中间接地,两头一边是+RF,另一边是-RF, 它的好处是等离子体电位比较低,但是也有缺点,那就是由于线圈靠近锥的部分仍有高压,而锥是接地的,因而两者之间容易引起放电,我见过PE的用户的线圈,靠近锥的一端是黑的,另一端是紫铜的颜色,现在热电和Agilent在工作线圈和炬管之间加了一个金属屏蔽圈,并且使其接第,也是为了降低等离子体电位,并且不会引起放电,我们的仪器就是这种方式.
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licuanlilili
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2005/2/26 10:32:00 板凳 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
qwertyuiop老师，谢谢您！我找到《质谱手册》，上面同您讲的一样。
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手机版： ICP-MS中的Plasmalok&#8482;接口专利技术
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