主题:请教:ICP-MS测Ni的一个问题

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toto
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用的是element的x7
最近在做样品时发现测Ni时空白记数很高,测量过程中会慢慢降低的问题
一般要烧1-2h左右才能稳定,下次测量还是同样的问题。
先是估计进样和取样的锥用的时间太长了,换过锥后不久,问题依旧

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libai651206
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原文由 toto 发表:
用的是element的x7
最近在做样品时发现测Ni时空白记数很高,测量过程中会慢慢降低的问题
一般要烧1-2h左右才能稳定,下次测量还是同样的问题。
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是用的Pt锥吗?
toudada
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如果样品中有Fe,Ca可能会有干扰
你试下多做原子量60和59的Ni

flt
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libai651206
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最近在做样品时发现测Ni时空白记数很高,测量过程中会慢慢降低的问题
一般要烧1-2h左右才能稳定,下次测量还是同样的问题。
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做低含量Ni最好用Pt锥。
toto
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用的是NI合金,可是以前都是好好的,测低含量的也没有这个问题啊。
toto
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toto
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zhengxxx
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有可能是采样锥锥口老化了,最简单的办法,换套新锥试试
zsdzsdzsd
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如果以前测量没有问题,那就应该是锥有毛病了。换一套实验一下,应该用PT锥的。
qwertyuiop
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灵敏度怎样? 如果测定的含量比较低,用的又是NI锥,那么有可能是信号太低了,我们以前遇到过,请教热电工程师后把灵敏度调到正常就OK了.
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