主题:【转帖】微电子化学试剂!

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引言
国家信息中心最近发布重点行业2002年发展前景报告,其中预计电子通讯产业工业总产值增长25%,主要产品彩电产量3500万台,手机9000万部,微机1200万台。
我国信息产业将继续高速度发展,产业规模将在2000年基础上再翻一番,在40个工业部门名列前茅,信息产业增加值占GDP的比重将超过7%,电子信息产业制造规模位居世界信息产品制造业大国之列(前三位),电子信息产品制造业系统内工业总产值达25000亿美元,年均增长20%,出口创汇达1000亿美元,年均增长15%左右,到2005年集成电路产量达到200亿块,十五期间信息产业投资规模为1.7万亿元,其中电子信息产品制造业4000亿元。为此,上海华谊(集团)公司专门成立了微电子化学品调研小组,撰写了调查报告,据上推测到2005年平均将会有5-6万吨微电子化学试剂的市场,上海将有4~5万吨微电子化学品的市场。
l 1C化学品市场
1.1半导体市场
根据美国国际市场调查公司Data quest资料显示,1996年全球通讯设备市场规模为1673.54亿美元,1998年达2132.79亿美元,2000年达2574.62亿美元,1996--2000年平均增长年为11.4%,国际商务战略一项研究显示,全球通信IC芯片市场销售将从1998年的283亿美元增加到2005年904亿美元。


资料来源:SIA/WSTS
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国外半导体芯片向体积小、速度快多功能和低功耗的方向发展。
日本自今年7月起,三个总价值超过1000亿日元的政府、企业和学术项目正式运转,旨在开发新一代半导体技术,其中有制造直径仅为65纳米的硅晶片,新的半导体材料和更有效,更节约的芯片制造技术,其目的在于再次夺取全球半导体市场领导者的地位。
美国IBM与日本索尼和东芝公司将共同开发比日前0.13}Im技术更先进的0.1lam的半导体技术。
台湾的台积电、联电、茂德、力晶等公司的12英寸晶圆生产基地,估计5年后台湾有10年以上】2英寸晶园厂。我国截止2000年底IC芯片工艺线状况。

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1.2.2我国电子化学品情况
上海华谊(集团)公司下属上海化学试剂公司,原来是国内产量最大,品种最多的电子化学品生产厂,70年代开发了系列光刻胶,80年代开始生产与化学微电子化学品,1985年具有300-400吨生产能力,从1985年到1995年每年都有数百吨产量,20几个品种微电子化化学试剂,90年代初小批量生产3¨微电子化学试剂。
上海华谊(集团)公司下属上海合成树脂研究所,生产聚酰亚胺类封装材料和导电胶等系列产品。
江阴试剂厂生产5μ的微产电子化学品,以及少量3μ的微电子化学品。
苏州瑞虹公司主要生产光刻胶及配套化学试剂。
2国外微电子化学试剂开发应用进展
2.1半导体制成材料及化学品的作用

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2.2 IC制程所使用的洁净技术
2.2.1温式清洁技术
该技术是RCA公司在60年代推出的,该方法由于能有效的去除晶片表面的各种污染,操作安全、方便,至今仍被使用。


2.2.2干式清洁技术
干式清洁技术是利用臭氧、氢氟酸和氯化氢,他们能够达到与RCA溶液相同的洁净效果,再干式清洁工艺中利用臭氧去除有机物,用氢氟酸气体去除二氧化硅,利用氯化氢气体去除金属杂质,今后0.25μm及以下的制程中,干式清洁技术将起重要作用。
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2.3电子化学品生产流程示意图

2.4 IC制程对洁净度之要求不断提高

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