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ID:ivy1128
行业:其他
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ID:nps
原文由 ivy1128 发表:我想请问一下,做硅片样品时,溶液怎么制备?我们是硝酸:氢氟酸=1:1溶解的我想请问一下,你们都怎么做的,以及溶解温度控制在多少?谢谢大家!
ID:wenhuih
ID:luckyfox
原文由 nps 发表:原文由 ivy1128 发表:我想请问一下,做硅片样品时,溶液怎么制备?我们是硝酸:氢氟酸=1:1溶解的我想请问一下,你们都怎么做的,以及溶解温度控制在多少?谢谢大家!硅片样品的表面金属杂质还是总体金属杂质?处理方法都不一样的,可以肯定一点,HNO3:HF=1:1浓度肯定是高了...其他的不能多说了...
原文由 wenhuih 发表:呵呵,不好意思,我没有做过纯硅样品,只是在其它样品中含有硅。我是用HNO3 5ml HF 0.5ml微波消解,180度,30min, HNO3 优级纯 HF MOS不知道有没有用
ID:zhckj