小弟刚用HPLC1200,冲洗系统的时候,不知道是什么原因会出现以下的情况,(仪器已经有半年多没有开了).系统的基本情况:agilentHPLC1200,四元泵,VWD检测器.配有柱温箱,反相C18柱.
1采用1ml/min的100%CH3OH冲洗系统,未进行任何的操作,压力为46pis,为什么会出现峰.如图1所示的情况,即40多min和50至60min之间出现的峰是什么情况造成的?
2手动进样,把六通阀双"load"的位置搬到"inject"位置后,运行30min得到基线,刚运行3min左右的时候,为什么会出现这么多的小峰,是不是因为六通阀被污染,如果是被污染了,应该怎样清洗?还有在30min以内为什么基线会一直向下漂移,应该怎样处理呢?如图2.