主题:秀下----离子研磨机

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icewine2000
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原文由 forzamarco 发表:
... 当然如果你说的要求都能实现的话,那估计它也能卖到一台FIB的价格了.

太贵
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Last edit by icewine2000
guanjun19860820
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哥们在哪里买的?能详细给点这方面的资料吗?我们这里好多样品由于没有这样的设备测试不了!我们领导正准备让我调查研磨机呢?谢谢!
guanjun19860820
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原文由 RENXIN 发表:
原文由 forzamarco 发表:
坦白说,我还没做过EBSD,不晓得做出来的效果怎样.第一张图片是客户的样品拍的,样品的内部有一根金线,这幅图是放大观察的表面晶格状况.对于需要做样品横截面抛光的客户还是比较有吸引力的.

EBSD样本需要做电解/电化学表面抛光才会有好效果,不过看您上传的照片效果,好像已经达到了ebsd所要的所谓减轻样本表面应力的程度了,可以在这些用户中推广一下。个人浅见。

前辈能给我们简单介绍一下EBSD吗?你觉得的Oxford还是EDAX的好?
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原文由 guanjun19860820 发表:
原文由 RENXIN 发表:
原文由 forzamarco 发表:
坦白说,我还没做过EBSD,不晓得做出来的效果怎样.第一张图片是客户的样品拍的,样品的内部有一根金线,这幅图是放大观察的表面晶格状况.对于需要做样品横截面抛光的客户还是比较有吸引力的.
EBSD样本需要做电解/电化学表面抛光才会有好效果,不过看您上传的照片效果,好像已经达到了ebsd所要的所谓减轻样本表面应力的程度了,可以在这些用户中推广一下。个人浅见。

前辈能给我们简单介绍一下EBSD吗?你觉得的Oxford还是EDAX的好?

EBSD就是反射式的电子衍射花样,相对于透射电镜的投射式。
原来衍射只在TEM上用,现在SEM也很流行了。
做的最好的是HKL,丹麦的。
白水山石
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原文由 drizzlemiao 发表:
这个从原理上看跟TEM用的离子减薄仪很相似。我不明白为什么它能减少充电效应。离子轰击会导致一定程度的离子注入,但是量不大。而且离子注入后样品整体上不太可能带大量电荷,那很不稳定。如果真的有很多离子电荷,那在电子束把它中和完之前仍然应该看到离子引起的充电效应。电荷中和的解释不太有说服力。


我也认同这种说法,离子在一个样品是存在的时间和数量究竟有多长和多少,才能达到这样一种效果?特别是对不导电样品来说.
我还有一个问题想请教楼主:研磨过程中研磨点的温度变化大吗?适合生物样品吗?
annelugel
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原文由 RENXIN 发表:
原文由 guanjun19860820 发表:
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原文由 forzamarco 发表:
坦白说,我还没做过EBSD,不晓得做出来的效果怎样.第一张图片是客户的样品拍的,样品的内部有一根金线,这幅图是放大观察的表面晶格状况.对于需要做样品横截面抛光的客户还是比较有吸引力的.
EBSD样本需要做电解/电化学表面抛光才会有好效果,不过看您上传的照片效果,好像已经达到了ebsd所要的所谓减轻样本表面应力的程度了,可以在这些用户中推广一下。个人浅见。

前辈能给我们简单介绍一下EBSD吗?你觉得的Oxford还是EDAX的好?

EBSD就是反射式的电子衍射花样,相对于透射电镜的投射式。
原来衍射只在TEM上用,现在SEM也很流行了。
做的最好的是HKL,丹麦的。

牛津早已经把HKL收购了。
forzamarco
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原文由 tianzhen 发表:
原文由 drizzlemiao 发表:
这个从原理上看跟TEM用的离子减薄仪很相似。我不明白为什么它能减少充电效应。离子轰击会导致一定程度的离子注入,但是量不大。而且离子注入后样品整体上不太可能带大量电荷,那很不稳定。如果真的有很多离子电荷,那在电子束把它中和完之前仍然应该看到离子引起的充电效应。电荷中和的解释不太有说服力。


我也认同这种说法,离子在一个样品是存在的时间和数量究竟有多长和多少,才能达到这样一种效果?特别是对不导电样品来说.
我还有一个问题想请教楼主:研磨过程中研磨点的温度变化大吗?适合生物样品吗?

好久没来了,前段时间一直在出差,感谢大家对此机台的关注.
依我的理解,离子是会在样品表面上有残留的,但是残留的量的多少没有测试过,也没有试着一直把电镜开着看是否在电荷中和后再次发生Charge-up.毕竟样品观察的时间也就是一两分钟的时间了.生物的样品没有尝试过,毕竟这只是我们安装的第一台设备,有许多应用的领域还没有涉及到.针对两位的问题,我暂时还没法给出一个正确的答案,待有了回复后,我再短信两位吧.

PS:以前贴图都被删除了,尤其是样品台的那一张,理由是会泄露机密,只好让同事帮着删除,没想到一下全删除了.我会再慢慢补上的.
大笨狗
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很早就听说过这种设备,只是觉得很贵。
对于做断面组织分析的人来说,这个东西真的很好。
问一个问题,在进行离子研磨之前,样品需要处理到什么状态?
forzamarco
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一般做离子研磨的样品还是要经过粗抛光的,这样使得样品表面平坦.当然如果用E-3500做断面抛光的话,样品不能太厚了不要超过5mm.如果是用IM-3000做表面抛光的话,对厚度倒没有太多的要求的.

以前有板油说离子研磨时间太长了,没错,用E-3500的话时间是比较长,可是如果用IM3000的话,所花的时间是用分钟计算的.现附一张2分钟的研磨效果图.
icewine2000
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你这个图是不是先手磨了以后再Ion Milling的?直接从样品表面打下来是不可能2分钟做到的。不过截面效果快赶上FIB了。
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