原文由 tianzhen 发表:
原文由 drizzlemiao 发表:
这个从原理上看跟TEM用的离子减薄仪很相似。我不明白为什么它能减少充电效应。离子轰击会导致一定程度的离子注入,但是量不大。而且离子注入后样品整体上不太可能带大量电荷,那很不稳定。如果真的有很多离子电荷,那在电子束把它中和完之前仍然应该看到离子引起的充电效应。电荷中和的解释不太有说服力。
我也认同这种说法,离子在一个样品是存在的时间和数量究竟有多长和多少,才能达到这样一种效果?特别是对不导电样品来说.
我还有一个问题想请教楼主:研磨过程中研磨点的温度变化大吗?适合生物样品吗?
好久没来了,前段时间一直在出差,感谢大家对此机台的关注.
依我的理解,离子是会在样品表面上有残留的,但是残留的量的多少没有测试过,也没有试着一直把电镜开着看是否在电荷中和后再次发生Charge-up.毕竟样品观察的时间也就是一两分钟的时间了.生物的样品没有尝试过,毕竟这只是我们安装的第一台设备,有许多应用的领域还没有涉及到.针对两位的问题,我暂时还没法给出一个正确的答案,待有了回复后,我再短信两位吧.
PS:以前贴图都被删除了,尤其是样品台的那一张,理由是会泄露机密,只好让同事帮着删除,没想到一下全删除了.我会再慢慢补上的.