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原文由 houyangqing 发表:
看了本文,对我的电镜操作有所启发,本人在公司用的是同一型号的电镜.在这里想问的一个是,由于生产所需,电镜被用来分析一些易污染样品,结果现在只能放大400倍了,怎么办?
原文由 renxin 发表:
鏡筒內有很多光圈﹐對於鎢絲的鏡筒﹐最後的一個最重要﹐一般叫物鏡光圈或最終光圈﹐這個大家都很明白。
最原始的物鏡光圈位置是在物鏡極靴的最底部﹐也就是FEI的設計﹐這種設計使得光圈成為最靠近樣本的光學部件﹐所以很容易被污染。
虛擬光圈是指將物鏡光圈提高位置到鏡筒當中﹐物鏡以上﹐一級和二級電磁透鏡以下﹐電子束通過這個虛擬光圈﹐將一個模擬的束斑打在樣本上﹐效果和真實的極靴底部的光圈產生的束斑一樣﹐但是污染大大地減少了﹐還有束斑的掃描角度大大增加﹐非常適合大景深的廣角觀察。
ZEISS(LEO)是最早使用這種設計的﹐日本的廠家也跟上﹐像HITACHI﹐JEOL﹐TOPCON。
不明白的是﹐FEI是最有名的可變壓力電鏡廠商﹐他們的商標是環掃﹐用環掃觀察樣本是最容易污染樣本室內的任何部件的了﹐但是FEI仍然死抱著他的老式光圈不放。
原文由 renxin 发表:
虛擬光圈是實體的﹐直徑一般比真實光圈小10到20倍﹐比如10UM的虛擬光圈和100UM或200UM的真實光圈效果是相當的。
原理我認為是電子光學的設計﹐將光圈放在不同的光路中的特定位置﹐可以投射不同的束斑﹐形成不同的探針。
這個設計的另一大優勢就是可以在操作過程中隨時在鏡筒上手動更換不同直徑的光圈﹐以適應不同的觀測需要﹐這就比VENT樣本室﹐再拿工具去更換真實光圈強多了。
比如說﹐小光圈的解析度較好﹐大光圈較適合能量譜分析。
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