主题:讨论:雾化气压力(流量)是如何影响发射强度和背景强度的

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tzl75
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讨论:雾化气压力(流量)是如何影响发射强度和背景强度的,大家在分析过程中是否调试过他
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tzl75
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creek
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那我说说我不讨论的原因吧,每次设好参数再做的,开一次机做二三十个样品,总不能做做改一下压力再做个样看看背景,强度吧.每次的样品又不重复,怎么看影响啊?
tzl75
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看来来你把问题没看清楚啊,我说的基本都是针对某类样品而言的,通过改变他来提高测定的灵敏度和信背比,影响很明显的,喜欢研究的朋友可以试试
creek
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strings
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气体流量的优化也是很有用的。可能大部分使用者多在使用仪器厂商推荐的条件而忽略了其优化。
载气流量对测量的影响较大,而冷却器和辅助气的影响较小(相对而言,冷却气的影响大一点)所以有些仪器的辅助气流量极低。
载气流量对信背比有一个最佳值。开始时,载气流量加大,进样量增多,进入ICP的量自然多,谱线强度增大,信背比会提高。但过了一定值后,载气再加大,速度太快,使进入ICP的粒子来不及激发而冲出ICP,同时流量过大的载气也使ICP温度降低。这样发射强度也会降低,信背比也变差。
值得一提的是,载气流量还影响最佳的观测高度。一般而言,流量增大会使最佳观测高度增大,原因同前。
tzl75
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原文由 strings 发表:
气体流量的优化也是很有用的。可能大部分使用者多在使用仪器厂商推荐的条件而忽略了其优化。
载气流量对测量的影响较大,而冷却器和辅助气的影响较小(相对而言,冷却气的影响大一点)所以有些仪器的辅助气流量极低。
载气流量对信背比有一个最佳值。开始时,载气流量加大,进样量增多,进入ICP的量自然多,谱线强度增大,信背比会提高。但过了一定值后,载气再加大,速度太快,使进入ICP的粒子来不及激发而冲出ICP,同时流量过大的载气也使ICP温度降低。这样发射强度也会降低,信背比也变差。
值得一提的是,载气流量还影响最佳的观测高度。一般而言,流量增大会使最佳观测高度增大,原因同前。



所以说雾化器压力或流量的选择也是条件优化一个很重要的方面
tzl75
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angle0124
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我倒是尝试过!但是从我做的条件来看!我的雾化器压力从25psi到35psi变化,
功率从750到1350变化!实验下来,对我做的金属来看,基本上差别很小,所以我现在都用默认值!
cyonghong
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载气流量的大小与分析时候的发射强度有关系,和背景强度的关系不是很大,但是我们载设计试验时要做载气流量对BEC(背景等效浓度)的关系图,以确定最佳的雾化气压力,但是由于发射光谱是多元素分析,不可能达到每个元素都到最佳,只能折中选择,通常是考虑最难的元素。
gamenrg
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