主题:【讨论】TOPAS高手请进~WPPF WPPD RR的区别~(已解决)

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iangie
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做完TOPAS Tutorial.....还是有几个疑问.....想请教各位老师看看我下面的理解对不对...

whole powder pattern fitting 是用search了peak以后, 用fundamental parameter approach 输入goniometer的半径,狭缝宽度等 通过refine 样品的各向同性晶粒尺寸 使计算峰跟测量峰吻合.
请问: WPPF只有求各向同性晶粒尺寸这一个作用吗?

whole powder pattern decomposition 分pawley fitting 和Le Bail fitting. 都是不寻峰, 只输入要refine的仪器参数(背景阶数,zero point error) 和hkl phase(空间群 晶胞参数) 使计算峰跟整个pattern吻合. Le Bail fitting还同时refine 了晶粒尺寸和strain
这个过程得到的是实际的实验条件和样品精修的晶胞参数

Rietveld Refinement 也是不寻峰  只输入仪器参数(半径 狭缝等) 和要refine的(背景阶数,zero point error) 和structure(空间群 晶胞参数 及 原子位置 热参数等) 使计算峰跟整个pattern吻合
这个过程得到的是实际的实验条件和样品精修的晶胞参数和原子结构

欢迎各位老师指正.......谢谢~~~~~~
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xujun16
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你好!
1.whole powder pattern fitting
是为了得到准确的峰位,半峰宽,积分强度。
2.whole powder pattern decomposition 分pawley fitting 和Le Bail fitting.
是为了验证指标化的准确性(精修晶胞参数),提取结构因子(为解析结构作准备)等等。两者的差别,在于pawley对强度也是一个精修参数,lebail定为常数。所以后者比较稳定!
3.Rietveld Refinement
是结构精修
三者是层层递进的关系。你的问题问得真好!
谢谢参考!
xujun16@163.com
iangie
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多谢楼上这位老师的解答!

我按照tutorial做完他的练习.就是缺少您这样对各种功能的整体把握..
iangie
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再请问一下各位老师~~~

从扫描到结构精修,中间必须要经过WPPF和WPPD吗?
我在D8上扫好raw data以后,直接用EVA做search match找好phase以后到ICSD中找cif文件,导入TOPAS直接就做Rieveld Refine了.

这个过程对吗?有没有什么遗漏的地方啊?

如果是对的话,那TOPAS的SPF WPPF WPPD三个功能在什么情况下用啊?

谢谢~~
iangie
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自己回答自己以前的问题,

TOPAS 的这些功能是选择性的用的,
对于不知道结构的谱图,要做single line fitting 或者WPPF以准确找到峰位,再用indexing(LSI, LP)的方法找到晶胞参数和空间群,再用WPPD(pawley, le bail)得到峰强以及峰强和峰强之间的相关性,再用这些信息进行解结构(abAb-initio structure determination).TOPAS给这样一个解晶体结构的过程,提供了这一系列无缝连接的功能.

对于Retveld 定量分析,只要能找到包含晶体结构信息的.cif文件,直接用来refine scale factor就好了~~~
dilong399
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iangie
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