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主题：【原创】激发频率对打点有什么影响？

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发表于：2010/08/25 00:05:42 楼主 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
直读光谱做分析时，除了激发电流和时间等参数，还有激发频率这个参数。帮朋友修直读光谱时发现激发频率对激发电流影响较大，同干扰也有影响，激发频率偏低（如200Hz），激发电流较大，干扰也较大（偶尔有死机现象），激发频率偏高（如400Hz），激发电流稍小些，干扰也小一些，不知各位同行对此有何见解？如何去理解激发频率在直读光谱中的作用？


按常理讲，难熔元素用高一些的激发频率，可能对分析有利一些，当然还要取决于激发电流和电压。
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2010/8/25 8:51:28 沙发 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
没有研究过，激发频率应该在一个适当的范围内，过高过低都会对检测带来影响！
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2010/8/25 22:08:12 板凳 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
目前光谱仪的光源分：数字光源与模拟光源。
各光谱厂家高端产品及新产品都用的数字光源，激发频率0—1000HZ.一些才老型号目前使用模拟光源，0-400HZ.
个人认为，光源激发频率大一些好，原子激发越彻底，利于检测。
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2010/8/27 8:28:04 马扎 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
目前国产直读仍然使用的是模拟光源，何时能用上数字光源还是未知数，但愿国产直读早日用上数字光源，使我国直读光谱的技术水平达到一个新的台阶。
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2010/8/28 8:43:55 地毯 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
中国光谱与外国光谱仪还有很大差距。
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chemchenxj
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2010/10/21 19:46:50 地板 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
搜索了一下以前的帖子，mlb2003版主曾说过“好像是频率高，激发点小，因此单位面积上的能量密度高，有利于元素的充分激发和缩短预熔所需的时间，这样提高了分析精度和速度，结果重现性好，而且适合难熔金属材料的激发。”
其他版友还指出“光源频率高的光源的放电电容越小，单次放电功率越小，火花偏软，不适于难激发的材料分析”
不是很懂，把内容贴出来，欢迎大家讨论！
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dyz
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2010/10/21 20:13:32 6楼 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
理想的情况是：各个元素用适合自己的最佳条件，包括电流、频率、时间等，均需要做燃烧曲线来确定，最后尽量找到一个折中的条件。为了追求更好的结果，一个样品的激发过程可能会是用多种条件按合理的先后顺序来激发。
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2010/10/22 13:37:13 7楼 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
原文由 chemchenxj(chemchenxj) 发表:
搜索了一下以前的帖子，mlb2003版主曾说过“好像是频率高，激发点小，因此单位面积上的能量密度高，有利于元素的充分激发和缩短预熔所需的时间，这样提高了分析精度和速度，结果重现性好，而且适合难熔金属材料的激发。”
其他版友还指出“光源频率高的光源的放电电容越小，单次放电功率越小，火花偏软，不适于难激发的材料分析”
不是很懂，把内容贴出来，欢迎大家讨论！
呵呵，也是看资料中介绍的，自己不太懂！
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