主题:【讨论】低压火花光源

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chemchenxj
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今天在版面中搜索了下关于光源的帖子,内容很多也很杂,有点弄不明白了

多频率(脉冲)高能予燃低压火花光源
高重复率(HiRep)高能预火花光源
电流控制光源(CCS)
智能复合型数字化光源
还有斯派克M10使用的SPECTRO 等离子发生器(SPECTRO Plasma Generator)等等
这些不同类型的光源的根据什么来分类的呢?还有其他类型的光源吗?现在的应用情况如何?
欢迎大家来讨论一下直读光谱用的低压火花光源

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dyz
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商家取个稀奇古怪的名字蒙人而已,本质上有多大区别?
chemchenxj
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为了便于讨论,将之前版友发表过的内容及一些资料上的东西先贴出来

高能预燃(HEPS)光源技术  用高能量预烧样品,使样品原子化程度充分,局部熔融均匀,在预燃接触后再切换成普通的激发能量状态并进行采集,这种光源受样品组织结构的影响比较小。

光电直读光谱用的“高能予燃火花光源”的详细参数
激发光源:高能予燃低压火花光源
   电源电压:AC220V±1%50Hz
   输入功率:1.2KVA
   输出脉冲:峰值电压960V
   峰值电流:预燃300A,曝光100A
   持续时间:预300us,曝光100us
   引  燃:脉冲幅度:30KV
   放电频率:200Hz

斯派克M10    SPECTRO 等离子发生器
    全数字等离子发生器。数字放电参数设定,数字脉冲发生器,数字离线脉冲控制。
    放电频率:200微秒放电400
    能量分辨率:125 毫瓦
    最长单次火花放电时间:4000 微秒
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2010/10/21 20:13:14 Last edit by chemchenxj
chemchenxj
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电流控制光源(CCS)
市场上最早的数字光源
每种基体都有由计算机控制的优化的分析条件
高度灵活性
  峰值电流 (250 A max.)
  频率 (1000 Hz max.)
  可编程电流平台衰减
  适合各种分析电流波形
紧凑的设计
  紧邻激发台
  在法拉第圆筒内
  防止RF泄漏
  提高整体稳定性

优点
更强的电流密度
更合适的电流波形
更高的频率, 高达1000Hz

优势
快速分析
低检出限
更好的精度
可靠性


CCS vs. Hirep
CCS: 数字控制
CCS: 最佳的光源条件
Hirep:使用RLC电路,电流自然衰减(不受控)

chemchenxj
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之前有happy_cheng关于光源的帖子
http://bbs.instrument.com.cn/shtml/20030926/15583/高重复率(HiRep)高能预火花光源
http://bbs.instrument.com.cn/shtml/20030926/15585/电流控制光源(CCS)的特点
大家可以先看看
此外有版友说目前光谱仪的光源分为数字光源和模拟光源,那么以上的光源应该算那种类型呢?
wccd
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高重复率(HiRep)高能预火花光源属于模拟光源,
电流控制光源(CCS)属于数字光源。
mlb2003
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原文由 chemchenxj(chemchenxj) 发表:
今天在版面中搜索了下关于光源的帖子,内容很多也很杂,有点弄不明白了

多频率(脉冲)高能予燃低压火花光源
高重复率(HiRep)高能预火花光源
电流控制光源(CCS)
智能复合型数字化光源
还有斯派克M10使用的SPECTRO 等离子发生器(SPECTRO Plasma Generator)等等
这些不同类型的光源的根据什么来分类的呢?还有其他类型的光源吗?现在的应用情况如何?
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不搞这方面的东西,也不明白!
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