原文由 vachzm(vachzm) 发表:
换一个思路,把样品室的V2换成可调的针阀,可对真空室的压力进行调节。另外建议分子泵的位置替换到扩散泵的位置,因为扩散泵有油污染。这样方框里的就只需一台机械泵。甚至可以省掉不用
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换一个思路,把样品室的V2换成可调的针阀,可对真空室的压力进行调节。另外建议分子泵的位置替换到扩散泵的位置,因为扩散泵有油污染。这样方框里的就只需一台机械泵。甚至可以省掉不用
多谢回复.
V2现在是一个门阀, 参见上面发的图, 之前也考虑过再加一个针阀控制流量, 但是本身的气体流量应该不大, 毕竟样品不到1毫克, 而且用针阀控制流量的话, 可能得到的结果跟用毛细管系统的MS会差不多,后来就没有考虑这个了
关于第2个建议, 方框里一开始放的是机械泵, 结果测出来背景比不放泵要高不少(18和28显著提升), 应该是机械泵的真空度不够导致的, 使得外界的气氛会通过机械泵进入真空室, 所以现在把那个换成了分子泵, 然后背景降下来了
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换一个思路,把样品室的V2换成可调的针阀,可对真空室的压力进行调节。另外建议分子泵的位置替换到扩散泵的位置,因为扩散泵有油污染。这样方框里的就只需一台机械泵。甚至可以省掉不用
多谢回复.
V2现在是一个门阀, 参见上面发的图, 之前也考虑过再加一个针阀控制流量, 但是本身的气体流量应该不大, 毕竟样品不到1毫克, 而且用针阀控制流量的话, 可能得到的结果跟用毛细管系统的MS会差不多,后来就没有考虑这个了
关于第2个建议, 方框里一开始放的是机械泵, 结果测出来背景比不放泵要高不少(18和28显著提升), 应该是机械泵的真空度不够导致的, 使得外界的气氛会通过机械泵进入真空室, 所以现在把那个换成了分子泵, 然后背景降下来了
1.当然真空越好,测出的效果越好,另外相同口径的扩散泵比分子泵的抽速要高很多,所以方框内最好放扩散泵机组。这样可以迅速把样品释放的气体排出。
2。分子泵机组用于维持真空比较好,因为它的抽速稳定,极限真空比扩散泵要高一个量级。
3..用针阀不至于产生很大的影响
4.样品放气的问题,需要综合考虑,比如样品室的材料放气,样品室的表面积过大等。
5.从图片看出来,泵和真空管道摆放不合理,造成抽速损失
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换一个思路,把样品室的V2换成可调的针阀,可对真空室的压力进行调节。另外建议分子泵的位置替换到扩散泵的位置,因为扩散泵有油污染。这样方框里的就只需一台机械泵。甚至可以省掉不用
多谢回复.
V2现在是一个门阀, 参见上面发的图, 之前也考虑过再加一个针阀控制流量, 但是本身的气体流量应该不大, 毕竟样品不到1毫克, 而且用针阀控制流量的话, 可能得到的结果跟用毛细管系统的MS会差不多,后来就没有考虑这个了
关于第2个建议, 方框里一开始放的是机械泵, 结果测出来背景比不放泵要高不少(18和28显著提升), 应该是机械泵的真空度不够导致的, 使得外界的气氛会通过机械泵进入真空室, 所以现在把那个换成了分子泵, 然后背景降下来了
1.当然真空越好,测出的效果越好,另外相同口径的扩散泵比分子泵的抽速要高很多,所以方框内最好放扩散泵机组。这样可以迅速把样品释放的气体排出。
2。分子泵机组用于维持真空比较好,因为它的抽速稳定,极限真空比扩散泵要高一个量级。
3..用针阀不至于产生很大的影响
4.样品放气的问题,需要综合考虑,比如样品室的材料放气,样品室的表面积过大等。
5.从图片看出来,泵和真空管道摆放不合理,造成抽速损失
十分感谢你的建议, 这就把装置再改一下, 过几天再上来报告, 呵呵
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换一个思路,把样品室的V2换成可调的针阀,可对真空室的压力进行调节。另外建议分子泵的位置替换到扩散泵的位置,因为扩散泵有油污染。这样方框里的就只需一台机械泵。甚至可以省掉不用
多谢回复.
V2现在是一个门阀, 参见上面发的图, 之前也考虑过再加一个针阀控制流量, 但是本身的气体流量应该不大, 毕竟样品不到1毫克, 而且用针阀控制流量的话, 可能得到的结果跟用毛细管系统的MS会差不多,后来就没有考虑这个了
关于第2个建议, 方框里一开始放的是机械泵, 结果测出来背景比不放泵要高不少(18和28显著提升), 应该是机械泵的真空度不够导致的, 使得外界的气氛会通过机械泵进入真空室, 所以现在把那个换成了分子泵, 然后背景降下来了
1.当然真空越好,测出的效果越好,另外相同口径的扩散泵比分子泵的抽速要高很多,所以方框内最好放扩散泵机组。这样可以迅速把样品释放的气体排出。
2。分子泵机组用于维持真空比较好,因为它的抽速稳定,极限真空比扩散泵要高一个量级。
3..用针阀不至于产生很大的影响
4.样品放气的问题,需要综合考虑,比如样品室的材料放气,样品室的表面积过大等。
5.从图片看出来,泵和真空管道摆放不合理,造成抽速损失
十分感谢你的建议, 这就把装置再改一下, 过几天再上来报告, 呵呵
但我还是提醒lz,这套系统能加热到200°已经很不错了,温度再高,样品室的密封件,估计就要漏气了。因为普通的橡胶密封只能耐150°,佛橡胶可到200°,金属密封可到250°,看图片,够呛,样品室好像不是耐高温的材料
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温度是一个系统问题,即使你把样品室的温度加到4/500°,那也不能证明样品所处的位置有那么高的温度,在真空里热是不能传导的。所以,你要做什么研究,最好找相关的资料参考一下。我感觉你现在的配置远远不能满足你想要达到的目的
我的意思是加热样品管, 见实物图的白色部分, 一个电热套用于加热样品管, 不是很大, 只要样品能加热到高温即可, 真空室应该无所谓
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温度是一个系统问题,即使你把样品室的温度加到4/500°,那也不能证明样品所处的位置有那么高的温度,在真空里热是不能传导的。所以,你要做什么研究,最好找相关的资料参考一下。我感觉你现在的配置远远不能满足你想要达到的目的
我的意思是加热样品管, 见实物图的白色部分, 一个电热套用于加热样品管, 不是很大, 只要样品能加热到高温即可, 真空室应该无所谓