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ID:sangni
行业:其他
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ID:lyyy0412
ID:xrf-info
原文由 sangni(sangni) 发表:我用熔片法建了一条玻璃的工作曲线其中SiO2含量在50%-60%之间,建好后用一个片连续测量10次,发现SiO2的绝对误差在0.25%左右,这个误差范围我觉得比较大,这是仪器的问题吗?是什么原因造成的呢?其他元素又相差不是很大
ID:albert800922
ID:sonne86400
原文由 sangni(sangni) 发表:不是呀,我们主要是要把SiO2能做的很精确,可熔片法的误差都是比较大的了,想做的更精确些,有没有其他方法?
ID:xulaoq
原文由 xulaoq(xulaoq) 发表:SiO2测量时间我们一般要用80S。
原文由 xulaoq(xulaoq) 发表:我测Si的量都较少,10ppm的偏差内。