主题:【讨论】XRF测SiO2时稳定性为什么不好呢?

浏览0 回复19 电梯直达
XRF_INFO
结帖率:
100%
关注:0 |粉丝:0
新手级: 新兵
原文由 sangni(sangni) 发表:
不是呀,我们主要是要把SiO2能做的很精确,可熔片法的误差都是比较大的了,想做的更精确些,有没有其他方法?


你的Si含量50-60%,你想做到极差多大?当然也可以把Si的测量时间再延长点。
金水楼台先得月
结帖率:
100%
关注:0 |粉丝:0
新手级: 新兵
原文由 XRF_INFO(xrf-info) 发表:
原文由 sangni(sangni) 发表:
不是呀,我们主要是要把SiO2能做的很精确,可熔片法的误差都是比较大的了,想做的更精确些,有没有其他方法?


你的Si含量50-60%,你想做到极差多大?当然也可以把Si的测量时间再延长点。[/quot

我后来觉的Si误差大,主要原因可能还是前期熔片,测定影响稍微少点。不知道大家怎么想的。
bennaiyou
结帖率:
100%
关注:0 |粉丝:0
新手级: 新兵
XRF测定主量元素SiO2很准确的,是不是你的坩埚或者预先处理出现问题了。
云☆飘☆逸
结帖率:
100%
关注:0 |粉丝:0
新手级: 新兵
金水楼台先得月
结帖率:
100%
关注:0 |粉丝:0
新手级: 新兵
原文由 云飘西风落(denx5201314) 发表:
硅,有的时候偏差大点。

知道是什么原因吗。
xp1980
结帖率:
100%
关注:0 |粉丝:0
新手级: 新兵
前期处理的时候,不知道你的熔样温度多少,如果低的话,可能导致样品熔样不完全,熔片不均匀。同时时间长点,
金水楼台先得月
结帖率:
100%
关注:0 |粉丝:0
新手级: 新兵
原文由 xp1980(xp1980) 发表:
前期处理的时候,不知道你的熔样温度多少,如果低的话,可能导致样品熔样不完全,熔片不均匀。同时时间长点,

你使用的温度是多少?
XRF_INFO
结帖率:
100%
关注:0 |粉丝:0
新手级: 新兵
如果熔片法测量Si,首先样品粒度肯定要能过200目的筛,105度烘2个小时,熔样温度要看具体的样品了。时间可以略微延长点,影响不是很大。当然Si的误差是比较大的一个,相对来说。
金水楼台先得月
结帖率:
100%
关注:0 |粉丝:0
新手级: 新兵
猜你喜欢最新推荐热门推荐更多推荐
品牌合作伙伴