主题：【转帖】便携全反射X射线荧光分析仪

原文由 老兵(wangliqian) 发表:
现在需要的不是王婆卖瓜，停留在广告宣传上。
是骡子是马就不能拉出来遛遛吗？

原文由 291943731q(291943731q) 发表:
新事物，待检验[/quote
我也期待中呢，如何作到全反射。

原文由 金水楼台先得月(albert800922) 发表:

原文由 291943731q(291943731q) 发表:
新事物，待检验[/quote
我也期待中呢，如何作到全反射。

反射体是关键，一般是石英载片，反射面一般为高精密度：λ/20，飞秒级，表面质量 ：20-10  ，(OFSQ)，平行度小于2分。看上去只是个小玻璃片，比金子贵。

原文由 291943731q(291943731q) 发表:
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全反射X荧儿（TXRF）分析技术是十多年前才发展起来的多元素同时分析技术，它突出的优点是检出限低（pg、ng/mL 级以下）、用样量少（Μl、ng级）、准确高度（可用内标法）、简便、快速，而且要进行无损分析，成为一种不可替代的全亲的元素分析方法。国际上每两年召开一次TXRF分析技术国际讨论会。该技术被誉为在分析领域是最具有竞争力的分析手段，在原子谱仪领域内处于领先地位。从整个分析领域看，与质谱仪中的ICP-MS和GDMS、原子吸收谱仪中的ETAAS和EAAS以及中子活化分析NAA等方法相比较，TXRF分析在检出限低、定量性好、用样量少、快速、简便、经济、多元素同时分析等方面有着综合优势。在X荧光谱仪范围内，能谱仪（XRF）和波谱仪（WXRF）在最低检出限、定量性、简便性、准确性、经济性等方面，都明显比TXRF差。在表面分析领域内，尤其在微电子工业的大面积硅片表面质量控制中，TXRF已在国际上得到广泛应用。

1. TXRF分析仪工作原理：

TXRF利用全反射技术，会使样品荧光的杂散本底比XRF降低约四个量级，从而大大提高了能量分辨率和灵敏率，避免了XRF和WXRF测量中通常遇到的木底增强或减北效应，大大缩减了定量分析的工作量和工作时间，同时提高了测量的精确度。

测量系统的最低探测限（MDL）可由公式计算：

        (2)

这里， 是木底计数率，t为测量计数时间，M为被测量元素质量，l代表被测量元素产生的特征峰净计数率，S=I/M就是系统灵敏度，由公式可以看出，提高灵敏底、降低木底计数率、增加计数时间是降低MDL的有效办法。木氏低、灵敏度高正是TXRF方法的长处，因而MDL很低。

原文由 291943731q(291943731q) 发表:
固体样本为熔融表面光滑，均一，样品本身理论可以做反射体，全反射临界角位置，不同材质全反射角不同。

粉末样品150-200目，由于颗粒效应达不到全反射，要么熔融要么溶解成液体。可以直接测粉末，集体效应大幅低于通常的X射线荧光装置。

水液体滴在载片上，中心位置固定，烘干即可测。

以上大体方法，各种材料不同根据结果细微调整，有待研究处理。

需要说明的是反射体（载片）是高纯度，机械强度大。性质稳定，高平整度。是仪器的重要关键部分。

原文由 291943731q(291943731q) 发表:
固体样本为熔融表面光滑，均一，样品本身理论可以做反射体，全反射临界角位置，不同材质全反射角不同。

粉末样品150-200目，由于颗粒效应达不到全反射，要么熔融要么溶解成液体。可以直接测粉末，集体效应大幅低于通常的X射线荧光装置。

水液体滴在载片上，中心位置固定，烘干即可测。

以上大体方法，各种材料不同根据结果细微调整，有待研究处理。

需要说明的是反射体（载片）是高纯度，机械强度大。性质稳定，高平整度。是仪器的重要关键部分。

原文由 291943731q(291943731q) 发表:
粗糙表面不具备全反射条件，当粉末测。另外仪器测量室较小，只能用专用载片测量可烘干液体和150-200目粉末。

液体测量可以反复烘干再滴加，浓缩测量。

很多应用也在测试中。有待进一步探讨检验。