原文由 jack510070(jack510070) 发表:
日立Z2000系列采用了双检测器的恒磁塞曼背景校正,并且作用在火焰和石墨炉上。这种配置的优点在于处理高且快速的背景信号时,残余噪声控制得很好。不过恒磁塞曼的缺点是部分元素的分析灵敏度损失较严重。PE的原吸采用的是交流塞曼,只作用在石墨炉上,火焰仍然采用D2背景校正。所以,如果您的应用强调火焰和石墨炉并重,并且需要处理较为复杂的背景问题,建议采购日立的。如果只看重石墨炉分析能力,那么PE的无疑更好。以上只是我的管见,仅供参考。据我所知,日立的应该比较便宜。
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PE从600型开始,采用一种俗称“二室一厅”的结构,“二室”指容纳石墨炉和火焰原子化器的内部空间,“一厅”指与光路耦合的工作位置。如果做火焰分析,则火焰系统移到厅的位置上。如果切换到石墨炉,则火焰系统回到它的“卧室”,而石墨炉则移出到工作位置。这种结构十分复杂,好处是光路光程大为减短,有利于提高光通量。但是否如此,只有用过才知。不过,在石墨炉方面的功力,Hitachi无论如何难比PE。