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行业:其他
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原文由 cwk_12(cwk_12) 发表:原文由 dahua1981(dahua1981) 发表:1.为什么测出来的结果比空白值都低呢?正常么?肯定是不正常啊,要不配制过程有问题,要么可能是基体干扰太大可以考虑加集体改进剂那用原子荧光测有也有出现这种情况?不知道该怎么解决。。。还有就是测出来的荧光值有的是负数 这也正常吗?还是低于检出限?
原文由 dahua1981(dahua1981) 发表:1.为什么测出来的结果比空白值都低呢?正常么?肯定是不正常啊,要不配制过程有问题,要么可能是基体干扰太大可以考虑加集体改进剂
原文由 cwk_12(cwk_12) 发表:原文由 normanhill(normanhill) 发表:CEM的哪款?我以前用的MARS 5是有漏气报警的恩恩 我也是用CEM Mars5的 最近几天经常有干罐的现象?咋回事?酸我也没有少加啊。。难道还是因为装配不当?还是漏气?
原文由 normanhill(normanhill) 发表:CEM的哪款?我以前用的MARS 5是有漏气报警的
原文由 cwk_12(cwk_12) 发表:原文由 wmj31(wmj31) 发表:6.测AS的时候都是用的什么酸?如果是用原子荧光做的话,测的时候用盐酸,而且要用硫脲来预还原AS(60度水浴半小时左右),用硝酸的话,会存在干扰(主要是硝酸会跟硫脲反应,致使AS的预还原不完全)就是用原子荧光测的。开始消解的时候都是用硝酸的,消解完赶完酸都是用2%Hcl定容的 加还原剂硫脲都是在室温下放置半小时的上机
原文由 wmj31(wmj31) 发表:6.测AS的时候都是用的什么酸?如果是用原子荧光做的话,测的时候用盐酸,而且要用硫脲来预还原AS(60度水浴半小时左右),用硝酸的话,会存在干扰(主要是硝酸会跟硫脲反应,致使AS的预还原不完全)
原文由 cwk_12(cwk_12) 发表:原文由 wangjunyu(wangjunyu1113) 发表:造成样品比空白低的原因挺多的,一个是你样品没有处理好,二就是你使用的试剂等空白值高造成截距变大,曲线的线性不好也会造成截距变大,或者你的曲线配置范围出现了问题请问怎么判断一个样品的前处理是否处理好了呢? 你所用的试剂都是哪个厂商的呢?空白低的,可以推荐一下吗?主要是硝酸和盐酸
原文由 wangjunyu(wangjunyu1113) 发表:造成样品比空白低的原因挺多的,一个是你样品没有处理好,二就是你使用的试剂等空白值高造成截距变大,曲线的线性不好也会造成截距变大,或者你的曲线配置范围出现了问题
ID:arvid2007
原文由 arvid2007(arvid2007) 发表:一般情况下加标回收率的正常允许范围为95%-105%
ID:zcm666
ID:sandhuang
ID:cwk_12
原文由 sandhuang(sandhuang) 发表:我也觉得微波漏气了