主题:【讨论】关于描迹问题

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tyj
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仪器在什么情况下就必须描迹,是多数元素光强下降?还是个别下降就应该做?

有针对某个元素进行描迹这一说么?描迹不是针对所有元素么?选择一个适合绝大多数元素光强通过的入射狭缝位置,不是么?

请大家给予深入的解释,谢谢!
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什么机器?如果是OBLF、ARL可向我咨询,一两句不太能解释得清楚。
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所有光谱仪大同小异,原理一样,只是方法不同而已
大漠孤洲
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定期做就可以,防范与未然,还有就是描迹描基体元素就可以,因为所有的元素都是同步的。
cuihuakun
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描迹相当于调主折射镜角度,从成像角度来讲,便是调整入缝的像的位置,也就是调整入射角的角度,从而整体改变所有谱线的偏移,描迹不能针对个别元素,只能整体调整。针对个别元素的,只能是调整各个元素出缝前面对应的小折射镜。
至于该何时描迹,何时不必描,是一种习惯,一般习惯在一天开始时描迹下,无论描迹值跑没跑,如果跑得多,可以趁此分析原因,若没跑,则正合心意。
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