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主题：【讨论】rf和DC的功率那个大？比如对于钢样的分析？

浏览0 回复22 电梯直达
云☆飘☆逸
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发表于：2012/09/04 22:01:06 楼主 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
rf和DC的功率那个大？比如对于钢样的分析？
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2012/9/4 22:43:15 沙发 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
RF应大于DC，这是因为钢铁样品是比较容易激发的，而非导体要比金属难激发，RF提供的能量要大于DC
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=牛牛=
yonglinxu
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2012/9/7 17:36:09 板凳 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
功率哪个大？ 这个值是可以设定的啊 你想设多少都可以啊 只要能达到 怎么比哪个大的
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wccd
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2012/9/7 21:10:04 马扎 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
ICP 是液体样品，DC是固体样品，两者确实不太好比，DC是直接激发，r f 是间接激发，所以从功率转换效率来讲，DC大于r f ，当两者都以最大功率工作时，r f的耗电比DC要大一些。
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2012/9/30 20:30:57 地毯 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
我在百度文库看到一个文件，看看能说明什么问题：
辉光放电光谱技术解决了大部分的这些问题，提供了一种快速、定量、可靠的深度剖面分析方法，测量深度一次可达150μm以上，耗费时间不超过2小时。本次试验对RF和DC两种光源的检测能力做了对比，同时说明了辉光放电光谱技术对工业表面处理分析的重要性，例如CVD，PVD和离子注入等表面处理方法。结果表明，对于表面处理的观察分析和质量控制来说，DC和RF辉光放电光谱技术是一种强有效的方法。
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2012/9/30 20:31:26 地板 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
辉光放电光谱技术采用DC或RF放电光源对待测试样表面产生溅射。尽管现在dc放电光源比较更广泛的应用于检测传导材料，但是，能够使用同一种放电光源来检测传导料和非传导材料的趋势将会促进rf放电光源的使用增多。本文对比研究了两种不同的放电光源（dc和rf）对PVD，CVD和离子注入试样的定量深度剖面分析。对用dc和rf光源对试样的成分深度剖面分析进行了对比和讨论，从中得出每种光源的主要优点和局限性。
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2012/9/30 20:31:49 6楼 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
用dc和rf放电光源分别检测了三种经过不同表面处理的试样，表1所示为这些处理方法的主要数据参数，包括处理过程，全部厚度，单层厚度和每步处理中存在的元素。
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2012/9/30 20:32:47 7楼 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
三种不同的离子注入试验按下列方法进行： 4×1017at/cm2的氮原子，8×1017at/cm2的氮分子在150keV的条件下进行，氮加碳混合注入。这些注入都在Whickham 200keV，质量分析器，大电流注入器的条件下进行。在靶室中配备有一台1×10-4Pa的低温真空泵和机械扫描系统，用来确保注入量的均匀性。在注入过程中，电流密度保持在0.05mA/cm2，以防止基体过热。
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2012/9/30 20:33:14 8楼 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊

技术

处理

大约厚度（μm）

离子注入

N+注入钛 在150keV

N2+注入钛 在150keV

N+加C+注入不锈钢

0.3

0.1

0.4

PVD沉积

TiN/CrN多层镀层

TiN/CrN多层镀层

2（0.2）

3.5（0.15）

CVD沉积

TiC/TiN双层镀层

10

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2012/9/30 20:33:33 9楼 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
PVD沉积采用活性的阴极真空电弧蒸发METAPLAS MZR323系统来进行沉积的。这个设备有6个圆柱形的蒸发器，工作条件为电压30V，电流100A，且在弱磁性环境中进行。在将试样放到试样室检测之前，要用碱性清洁剂对试样进行清洗，然后用丙酮超声波清洗。工作温度在400-500℃之间，主要取决于沉积类型。剩余真空大约为10-4Pa，工作压强在10-2和1 Pa之间。
CVD沉积是用热的低压CVD设备，在温度大约为1000℃ 和压强大约为300 Pa的条件下进行。
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2012/9/30 20:33:59 10楼 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
Dc放电光源分析是用GDS750A分光计（LECO）来进行分析的，它配备有一个等离子光源，其内部阳极直径为2.5mm。分光计的光学部分是由多色仪组成的，它使深度剖面分析能够非常可靠高效的完成（数据采集频率＞1kHz）。从每个光电倍增管中发出的信号，可以能够同时收集41种信号元素。GDS750对所有需要的元素进行校准，使为了使检测到的光的强度与每次溅射物质的增加量和辉光放电参数量化。所用元素的发射谱线为（波长单位nm）：Ti（365.36），N（149.26），C（156.14），Cr（425.43）和Fe（371.99）。一些深度剖面的检测要在恒定的Ar气流和稳定的700V电压和20mA的电流的条件下进行。最后，对于所有因检测所留下的溅射坑的形状要用光学轮廓测定仪来测量，以此来获得深度校准所需的必要信息。用于校准用的相关材料是一些HSS（高速钢），类似于用于注入试样的基体。PVD沉积的校准也是使用相同的标准材料，同时要含有较多量的（95，96和97%）Ti和Cr的目标值，它们加入到校准中是为了扩大上面所提到的量化范围。使用这种设备可采用40点/秒的采集速率来对所有的试样进行检测，除了CVD沉积的镀层检测所用采集速率为2点/秒。所有检测行为都是在电流和电压恒定的条件下进行的，且用压强控制等离子体的稳定性。GDS750A标准试样是由试样分析局认证的。所用试样为：SS-CRM 461/1，SS-CRM 462/1，SS-CRM 463/1，SS-CRM 464/1，SS-CRM 465/1，SS-CRM 468/1，SS-CRM 481/1，SS-CRM 484/1，SS-CRM 485/1，SS-CRM 487/1。
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