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主题：【求助】消除氧化物干扰的方法

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nphfm2009

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发表于：2012/11/19 07:20:06 楼主管理分享倒序浏览只看楼主回复私聊

书中提出消除氧化物干扰的方法也可以用冷等离子体技术。冷等离子体技术可以减弱氧化物干扰不理解，RF功率小，氧化物不是结合的更多吗，怎么还可以减弱呢？谢谢

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2012/11/19 17:04:47 沙发管理分享倒序浏览只看楼主回复私聊

消除氧化物的方法有几种，降低等离子体功率，加反应气，调整采样深度及这些方法的组合等等。但是每一种方法都是相对的，不能完全消除。主要要根据自己的检测要求。就像有人说过，你测量ppm甚至ppb级别的样品，ppt级别的影响你会很在意吗？所以一切要具体问题具体分析！

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nphfm2009

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2012/11/21 6:47:28 板凳管理分享倒序浏览只看楼主回复私聊

原文由 阶前尘(jieqian1211) 发表:
消除氧化物的方法有几种，降低等离子体功率，加反应气，调整采样深度及这些方法的组合等等。但是每一种方法都是相对的，不能完全消除。主要要根据自己的检测要求。就像有人说过，你测量ppm甚至ppb级别的样品，ppt级别的影响你会很在意吗？所以一切要具体问题具体分析！

还是对降低等离子体功率可以减少氧化物干扰不理解，按理来说，要降低氧化物的干扰，不是要加大等离子体功率，才能打破氧化物的结合键能吗？

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liudaixi33

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2012/11/25 10:54:54 马扎管理分享倒序浏览只看楼主回复私聊

这个我觉得：除了功率外还有就是其他的参数都得一起调节不是说只调节一个参数就能达到的比如采样深度雾化器压力什么的你得全面照顾不然氧化物低了双电荷什么的又上来了。主要看你是哪个厂家的设备，然后和工程师沟通下，看可调的参数哪些能调，调节的意义。然后再自己整下基本OK

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envirend

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2012/11/27 17:29:18 地毯管理分享倒序浏览只看楼主回复私聊

原文由 nphfm2009(nphfm2009) 发表:
原文由 阶前尘(jieqian1211) 发表:
消除氧化物的方法有几种，降低等离子体功率，加反应气，调整采样深度及这些方法的组合等等。但是每一种方法都是相对的，不能完全消除。主要要根据自己的检测要求。就像有人说过，你测量ppm甚至ppb级别的样品，ppt级别的影响你会很在意吗？所以一切要具体问题具体分析！

还是对降低等离子体功率可以减少氧化物干扰不理解，按理来说，要降低氧化物的干扰，不是要加大等离子体功率，才能打破氧化物的结合键能吗？

我和你的理解一样

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anhwei

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2013/1/24 15:18:44 地板管理分享倒序浏览只看楼主回复私聊

AridusII 利用加热的雾化室和加热的膜来去除溶剂干扰提高ICPMS的信号灵敏度。Aridus II 与ICPMS 联用来提高信号强度，同时去除基体中氢氧化物的干扰。绝大多数元素能提高３～１０倍的信号强度。

AridusII　的性能特点:

1 Aridus II 系统能够使用 HF 酸直接进样。

2 最大样品提升量为250ｕｍ／ｍｉｎ

3 ＰＦＡ气动雾化器（６ｍｍ标准直径）

4 氧化物去除效率的测试标准是用　ＣｅＯ／Ｃｅ　的比值，该比值能达到０.０５％或者更低。

5 可选件：专用的微量自动进样器，ＡＳＸ－１１２ＦＲ

6 样品以自提的形式进入　Aridus II 的ＰＦＡ雾化器。排除蠕动泵进样引起的脉动效应。

7 AridusII 可添加低流量氮气，提高ICP-MS的信号强度。

8 挥发性有机溶剂能够用Aridus II进样。

9 Aridus II 能够为激光剥蚀实时添加内标，溶液样品变成干的气溶胶添加到LA-ICP-MS系统中。

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2013/1/24 20:35:39 Last edit by leemoonling