主题:【求助】为什么电镜做样需要喷金喷C ?这分别有什么作用呢?

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HORIBA和安捷伦
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请高手从原理解释一下,而且现在市面上又出现了做样不需要喷金喷C的电镜,这又是为什么?
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HORIBA和安捷伦
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也就是说现在对于一些非导电样品直接观察的电镜,使用的是低电压成像技术和低真空成像技术了?
天黑请闭眼
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原文由 HORIBA和安捷伦(jiang611) 发表:
也就是说现在对于一些非导电样品直接观察的电镜,使用的是低电压成像技术和低真空成像技术了?


应该是场发射专用,万不得已,才在场发射电镜的样品上喷镀。
小M
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低真空、环扫可以不用镀膜,不导电也可以直接拍照
樱桃小紫
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yanggaiqing
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喷金喷C是为了消除荷电现象,增强样品导电性,便于清晰观察样品;样品不喷金,使用的是低电压成像技术和低真空成像技术
Amy_luo
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喷金喷碳的目的是为了让不导电的样品更容易观察,在样品的表面喷了一层导电介质,现在多用Pt,Pt-Pd,Au,Au-Pd,C等。
用电镜观察最重要的就是要看到样品的原貌,如果在所需要的观察的倍率下,看不到喷金颗粒的话,就可以了。
现在的材料越来越小,需要的倍率也越来越高,在高倍下就可以看到喷金颗粒了,所以才会有不喷金就可以观察的各种场扫描电镜的出现。
具体喷金的要求和喷金后最大到多少倍就能看到喷金颗粒请参考下面的帖子:
http://bbs.instrument.com.cn/shtml/20130125/4538548/
喷碳多数用在需要做EDX分析的前处理中,金的谱峰高,可能会干扰其他元素,所以用喷碳来避免。
gsys
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材料表面镀金镀碳的原因主要有两个,一个是避免材料荷电。所谓荷电其实就是入射电子的量大于产生的二次电子或者背散射电子的数量,从而导致在材料表面形成电子的富集(产生负电位)。由于负负相斥的原理,使得后面的入射电子不能在材料表面会聚,产生一系列的后果,例如聚焦不太容易聚清楚,表面形成一道一道白色的二次电子突然放电的现象。因此要得到满意的形貌,应该在材料表面形成一个有效的电子通路,即在样品台和材料表面有导电通路。最佳的办法就是在表面镀膜,这就是为什么扫描电镜要镀膜的原因。另一个原因是增加二次电子发射率,使图像信噪比增强,看上去更漂亮。
gsys
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为什么现在一些电镜不需要镀膜?请看下面的图!


上图中横坐标是加速电压,纵坐标是二次电子产额率(二次电子电流IS与入射电子束流Ip的比值),当二次电子产额率δ1时,产生的二次电子数量大于入射电子数量,因此电子束与样品作用时,在样品表面不会造成负电荷的富集,从而不会产生荷电现象。如上图所示,当加速电压小于在V1V2之间时,δ1,不会产生荷电现象。这就是为什么一些电镜不需要镀膜在低电压下能直接观察的原因。
gsys
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常见材料的V2值(kV)
感光树脂    0.6
非晶碳    0.8
聚四氟乙烯    1.9
石英    3.0
氧化铝    3.0
因此,对很多材料来说,低电压可以直接观察
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