主题:【求助】首次使用时进样系统的清洗

浏览0 回复13 电梯直达
简单的HM
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各位大侠,请问仪器安装调试过程中发现氧化物含量偏高,可以使用稀氢氟酸(2%)对进样系统进行较长时间清洗吗?
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你的进样系统是什么材料的,氢氟酸不能用于石英材质。
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2013/6/26 15:14:29 Last edit by jieqian1211
光哥
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排除了其他所有的因素,确定是进样系统造成的氧化物指数上升的么?
早前用ICPOES的时候,装机遇到过雾化室挂珠,用尽各种方法都无法清洗干净,才不得不用稀(HF+HNO3)混合喷洗。不过这个步骤是仪器厂商的工程师来完成的。
如1L所言,石英的用HF有一定的危害性,如确实是进样系统的污染需要用到HF,建议在厂商工程师指导下完成
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nphfm2009
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yangchengh
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氧化物比率增加也有可能是雾化系统引起,导致水蒸气进入矩管,先找到原因吧
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阶前尘
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原文由 yangchengh(v2658860) 发表:

氧化物比率增加也有可能是雾化系统引起,导致水蒸气进入矩管,先找到原因吧


水蒸气的原因的话,是不是雾化室温度不够低啊
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2013/6/27 22:28:32 Last edit by jieqian1211
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原文由 阶前尘(jieqian1211) 发表:
原文由 yangchengh(v2658860) 发表:

氧化物比率增加也有可能是雾化系统引起,导致水蒸气进入矩管,先找到原因吧


水蒸气的原因的话,是不是雾化室温度不够低啊


有可能,我们之前碰上过,雾化室温度太高,导致水蒸气不能冷凝成大液滴排出,进入矩管,氧化物比率增加,但是雾化室太脏造成雾化室积水也有可能水蒸气进入矩管吧,个人观点,呵呵
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envirend
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原文由 阶前尘(jieqian1211) 发表:
原文由 yangchengh(v2658860) 发表:

氧化物比率增加也有可能是雾化系统引起,导致水蒸气进入矩管,先找到原因吧


水蒸气的原因的话,是不是雾化室温度不够低啊


有可能,我们之前碰上过,雾化室温度太高,导致水蒸气不能冷凝成大液滴排出,进入矩管,氧化物比率增加,但是雾化室太脏造成雾化室积水也有可能水蒸气进入矩管吧,个人观点,呵呵


一般仪器厂家都是雾化室是半导体制冷,一般设置温度为2摄氏度--这个我们在仪器点火后能看到:温度逐渐下降到2摄氏度的现象。
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阶前尘
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话说如果真是水蒸气的原因的话,试一试HMI!用气体稀释
职业游民
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狼牛牛
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原文由 光哥(xsh1234567) 发表:
排除了其他所有的因素,确定是进样系统造成的氧化物指数上升的么?
早前用ICPOES的时候,装机遇到过雾化室挂珠,用尽各种方法都无法清洗干净,才不得不用稀(HF+HNO3)混合喷洗。不过这个步骤是仪器厂商的工程师来完成的。
如1L所言,石英的用HF有一定的危害性,如确实是进样系统的污染需要用到HF,建议在厂商工程师指导下完成


光哥 我的雾化室也挂水珠了 怎么办?
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