主题:请教:关于粒度分析中有项"残差"

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zhangqiang1215
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在做之前首先要确保仪器状态较好,样品池镜片干净,残差和结果列表中的拟合的图谱部分一样,可表示两者差异的大小,光学参数只是影响的一部分,其大小还与样品的分布状况,和拟合的模型有关有关,但通常作为质量控制都只是调整光学参数就够了,其它两项一般不动。
nonolj
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litsas
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残差主要参考意义是确定样品分散情况,跟粒度分析结果有关联,如果粒度分析结果重复性较差,残差肯定较大。残差较大,说明两个问题,要么你的样品分散不到位,超声时间不够,要么,样品在测量过程中有变化,出现颗粒破坏或者团聚的情况。如果是因为前者,将样品接着超声一下就可以了,如果继续超声解决不了问题,就要考虑更换样品分散剂的选用时候合适,或者样品是否已经遭到破坏了。对残差的要求,低于1%最佳,低于3%也可以接受,高于5%基于测试的准确性就一定要重新处理了。看同一样品重复测量粒径结果分布图走势可以确定是不是样品分散的原因。
litsas
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11楼的保持样品池的洁净也是降低残差的方法之一,我上叙的情况是保证仪器正常良好运行情况下的解决方法。
beyond1977
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原文由 ieqian(ieqian) 发表:
我这里也是MS2000,对“残差”,我开始一直以为就是一种“误差”的表示方法,但现在看不是,问题是如何确定1~3%就是准确的呢?而且,我测试过一些样品,无论你如何调整光学参数,它的残差值都很大。所以,到现在都弄不清楚。


残差不仅仅与仪器有关,与样品也有很大关系,通常样品正态分布较好的,残差会相对较小,反之会越大
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