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ID:v2905367
行业:其他
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ID:jimzhu
ID:matt_zheng
ID:jxyan
ID:wyj8578
ID:mcds
原文由 luos86(v2905367) 发表:本人在做HS-SPME-GCMS时经常出现硅氧烷的峰,丰度接近测试样品的响应水平,请问如何避免?我用的是SPME手动进样,安捷伦低流失隔垫,色普科SPME专用衬管,初步推测干扰峰来自进样口隔垫的流失,但是换了新的隔垫问题并没有得到解决。另外直接液体进样时并没有出现这样的情况,所以流失应该不是来自色谱柱固定相。
ID:cai008
原文由 雾非雾(mcds) 发表:原文由 luos86(v2905367) 发表:本人在做HS-SPME-GCMS时经常出现硅氧烷的峰,丰度接近测试样品的响应水平,请问如何避免?我用的是SPME手动进样,安捷伦低流失隔垫,色普科SPME专用衬管,初步推测干扰峰来自进样口隔垫的流失,但是换了新的隔垫问题并没有得到解决。另外直接液体进样时并没有出现这样的情况,所以流失应该不是来自色谱柱固定相。一般说在全扫描图中才能看到硅氧烷的碎片峰,如果是用粒子扫描是不会看到硅氧烷峰的。
原文由 symmacros(jimzhu) 发表:这是萃取头流出来硅氧烷化合物,几乎无法避免。只能是使用前多老化一下萃取头,会减少Si-O的流失。
原文由 蓝是那么的天1188(matt_zheng) 发表:楼主用的什么型号的柱子?如何排除来自柱子的干扰?