主题:【已应助】做SPME时出现硅氧烷干扰峰

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luos86
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本人在做HS-SPME-GCMS时经常出现硅氧烷的峰,丰度接近测试样品的响应水平,请问如何避免?

我用的是SPME手动进样,安捷伦低流失隔垫,色普科SPME专用衬管,初步推测干扰峰来自进样口隔垫的流失,但是换了新的隔垫问题并没有得到解决。另外直接液体进样时并没有出现这样的情况,所以流失应该不是来自色谱柱固定相。
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symmacros
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这是萃取头流出来硅氧烷化合物,几乎无法避免。只能是使用前多老化一下萃取头,会减少Si-O的流失。
蓝是那么的天1188
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楼主用的什么型号的柱子?如何排除来自柱子的干扰?
千层峰
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来自进样口,那很可能如朱老师所说,来自萃取头了。
wyj8578
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我做的时候也是,比较后面会出现较高的si-O峰,萃取头的fiber中有的,木有办法啊
雾非雾
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原文由 luos86(v2905367) 发表:
本人在做HS-SPME-GCMS时经常出现硅氧烷的峰,丰度接近测试样品的响应水平,请问如何避免?

我用的是SPME手动进样,安捷伦低流失隔垫,色普科SPME专用衬管,初步推测干扰峰来自进样口隔垫的流失,但是换了新的隔垫问题并没有得到解决。另外直接液体进样时并没有出现这样的情况,所以流失应该不是来自色谱柱固定相。


一般说在全扫描图中才能看到硅氧烷的碎片峰,如果是用粒子扫描是不会看到硅氧烷峰的。
花开见我
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直接进样没有,只有SPME的时候才有,那基本可以判定是来自于萃取头。
你的萃取头用了多久(多少次),看看是不是该换一个了。
另外你老化萃取头,用多高的温度呢。
蓝是那么的天1188
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原文由 雾非雾(mcds) 发表:
原文由 luos86(v2905367) 发表:
本人在做HS-SPME-GCMS时经常出现硅氧烷的峰,丰度接近测试样品的响应水平,请问如何避免?

我用的是SPME手动进样,安捷伦低流失隔垫,色普科SPME专用衬管,初步推测干扰峰来自进样口隔垫的流失,但是换了新的隔垫问题并没有得到解决。另外直接液体进样时并没有出现这样的情况,所以流失应该不是来自色谱柱固定相。


一般说在全扫描图中才能看到硅氧烷的碎片峰,如果是用粒子扫描是不会看到硅氧烷峰的。


硅氧烷的特征离子就那么几个,还是比较容易避开的。
luos86
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原文由 symmacros(jimzhu) 发表:

这是萃取头流出来硅氧烷化合物,几乎无法避免。只能是使用前多老化一下萃取头,会减少Si-O的流失。


的确有可能,谢谢朱老师提醒。改天用DVB萃取头试试还有没有硅氧烷
luos86
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原文由 蓝是那么的天1188(matt_zheng) 发表:

楼主用的什么型号的柱子?如何排除来自柱子的干扰?


我们用的是hp-5ms,因为直接液体进样时没有出现硅氧烷的峰,故排除是柱子流失。
luos86
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原文由 雾非雾(mcds) 发表:
原文由 luos86(v2905367) 发表:
本人在做HS-SPME-GCMS时经常出现硅氧烷的峰,丰度接近测试样品的响应水平,请问如何避免?

我用的是SPME手动进样,安捷伦低流失隔垫,色普科SPME专用衬管,初步推测干扰峰来自进样口隔垫的流失,但是换了新的隔垫问题并没有得到解决。另外直接液体进样时并没有出现这样的情况,所以流失应该不是来自色谱柱固定相。


一般说在全扫描图中才能看到硅氧烷的碎片峰,如果是用粒子扫描是不会看到硅氧烷峰的。


我们做成份分析,所以得用scan做。倒是定量检测做得比较少,很少用到sim
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2014/10/10 23:59:29 Last edit by v2905367
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