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ID:wccd
行业:其他
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ID:dfgj
ID:hsz123456
ID:v2970812
原文由 hsz123456(hsz123456) 发表:预燃、冲洗和曝光时间的选择是根据不同的基体作不同的设置。
原文由 东亚醋王胡森塞(v2970812) 发表: 可是目前ccd的没有一个标准呢。用户也没有办法大量实验找适合的参数。很头疼
ID:king95509
ID:chemchenxj
原文由 king95509(king95509) 发表:激发光源部分条件选择是指的电流强度大小吗?
ID:yonglinxu
原文由 东亚醋王胡森塞(v2970812) 发表:预燃、冲洗和曝光时间的选择这项有具体标准嘛?我觉得应该针对不同材料有不同的时间设置,但是不知道具体该设置多少才最合适
原文由 hsz123456(hsz123456) 发表:直读光谱分析条件选择在出厂以前就已经设置好的,一般用户不会轻易去改变,以前WinOE分析条件选择随意更改,现在OXSAS软件分析条件选择就没法更改。