主题:【讨论】平衡式驱动ICPMS

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之前看到一个帖子,不过实在是忘记了。貌似是iCap-Q无需屏蔽炬也能实现屏蔽炬的能力了。
之前从7500到7700,屏蔽炬这个东西一直是A家的宣传点之一吧?不知现在7900是不是也是去掉这个东西了?
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拜亚动力T90
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找到了7900的配件清单,还是有屏蔽炬套这么说依然不是平衡式驱动了?

这个可奇怪了。。。。。那屏蔽炬的作用到底是使三匝线圈的前后电压相同呢,还是有其他作用呢?
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2016/1/6 9:46:24 Last edit by v3022870
gz07apple
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平衡式驱动,实际就是虚拟接地技术,通过施加相位差180度的两路射频,模拟等离子体接地。目的是减少锥口的二次放电,降低干扰。
安捷伦一直都使用专利的屏蔽矩技术,屏蔽矩实际与地相连,真实接地,也是消除二次放电。但相比虚拟接地,对离子能量的控制要好一些。
同时最初屏蔽矩的出现,与1994年安捷伦采用的冷等离子体模式也有关系,有它方便冷、热焰模式的切换。
还有一种叫交错线圈,是varian消二次放电技术,从Jena彩页上看可能接手后不再使用了
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平衡式驱动,实际就是虚拟接地技术,通过施加相位差180度的两路射频,模拟等离子体接地。目的是减少锥口的二次放电,降低干扰。
安捷伦一直都使用专利的屏蔽矩技术,屏蔽矩实际与地相连,真实接地,也是消除二次放电。但相比虚拟接地,对离子能量的控制要好一些。
同时最初屏蔽矩的出现,与1994年安捷伦采用的冷等离子体模式也有关系,有它方便冷、热焰模式的切换。
还有一种叫交错线圈,是varian消二次放电技术,从Jena彩页上看可能接手后不再使用了

平衡式驱动貌似是和“变频等离子体电源”相关的吧?而屏蔽炬的存在就是因为固定频率下,线圈和ICP之间会有一个。。。。怎么说好呢?总之结果就是固定频率前提下,线圈之间会存在一个电压差,因此用屏蔽炬来达到消除电压差的目的。
但7900的宣传有点看不懂,耗材里面有屏蔽炬;宣传手册里面的“数字控制高速频率匹配”,这个看起来特别像变频等离子体的意思
迷惑了
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但7900的宣传有点看不懂,耗材里面有屏蔽炬;宣传手册里面的“数字控制高速频率匹配”,这个看起来特别像变频等离子体的意思
迷惑了


(1)消耗品手册里有这个货号,就代表它一定是耗材?
(2)高频匹配,应该是指 待测样品基体变化时,反射功率能快速匹配,而非 等离子体频率(27.12 MHz或者40.68 MHz)变化
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2016/1/6 13:14:11 Last edit by timstoicpms
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(1)消耗品手册里有这个货号,就代表它一定是耗材?
(2)高频匹配,应该是指 待测样品基体变化时,反射功率能快速匹配,而非 等离子体频率(27.12 MHz或者40.68 MHz)变化

1、好吧,这个我没阐述清楚。其实我也没认为它是耗材,只是说如果是变频电源的话,那么应该是不需要屏蔽炬的。反之,如果有这个东西存在,那么是否可以证明依然需要匹配箱。
2、看过使用匹配箱的原理,大致就是需要一个电容来变换以匹配功率。但如果是变频电源的话,是通过电子电路来控制频率变换从而达到匹配的功效。换句话说,电子电路的变化明显要比机械式电容的变化要快得多。
个人的理解,如有误请指正。
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gz07apple
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平衡式驱动貌似是和“变频等离子体电源”相关的吧?而屏蔽炬的存在就是因为固定频率下,线圈和ICP之间会有一个。。。。怎么说好呢?总之结果就是固定频率前提下,线圈之间会存在一个电压差,因此用屏蔽炬来达到消除电压差的目的。
但7900的宣传有点看不懂,耗材里面有屏蔽炬;宣传手册里面的“数字控制高速频率匹配”,这个看起来特别像变频等离子体的意思
迷惑了


你混淆了概念,所谓“变频”设计,如上面所讲是匹配样品基体变化,如从水相到有机相,等离子体负载是不一样的,所以RF发生器需要变频设计。
二次放电:等离子体本身是电中性,但由于接口锥接地,因此与锥的零电压相比,存在一定电位差,若不消除会产生放电现象,这并不是在线圈和ICP之间。
如果ICP与线圈之间放电,你的线圈早就打穿了,这也就是很多厂家采用虚拟接地,常出现的问题。
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你混淆了概念,所谓“变频”设计,如上面所讲是匹配样品基体变化,如从水相到有机相,等离子体负载是不一样的,所以RF发生器需要变频设计。
二次放电:等离子体本身是电中性,但由于接口锥接地,因此与锥的零电压相比,存在一定电位差,若不消除会产生放电现象,这并不是在线圈和ICP之间。
如果ICP与线圈之间放电,你的线圈早就打穿了,这也就是很多厂家采用虚拟接地,常出现的问题。


好吧,回头我再看看吧。做化学的看物理方面真心觉得吃力。谢谢了
所谓“变频”设计,如上面所讲是匹配样品基体变化,如从水相到有机相,等离子体负载是不一样的,所以RF发生器需要变频设计。
这点,说说我的理解:首先我知道从水相到有机相,等离子体的负载是不一样的,需要进行匹配。。。但匹配有两种方式可以完成:一种是RF频率发生变化——这个貌似就是Thermo的iCap-Q,这种方式无需匹配箱,同时是一种“平衡式驱动”;另外一种是频率固定,通过机械式的电容变动达到匹配的目的,需要匹配箱,同时是一种“非平衡式驱动”方式。
呃。。。貌似我真的混淆了
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2016/1/6 15:18:18 Last edit by v3022870
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好吧,回头我再看看吧。做化学的看物理方面真心觉得吃力。谢谢了
所谓“变频”设计,如上面所讲是匹配样品基体变化,如从水相到有机相,等离子体负载是不一样的,所以RF发生器需要变频设计。
这点,说说我的理解:首先我知道从水相到有机相,等离子体的负载是不一样的,需要进行匹配。。。但匹配有两种方式可以完成:一种是RF频率发生变化——这个貌似就是Thermo的iCap-Q,这种方式无需匹配箱,同时是一种“平衡式驱动”;另外一种是频率固定,通过机械式的电容变动达到匹配的目的,需要匹配箱,同时是一种“非平衡式驱动”方式。
呃。。。貌似我真的混淆了


iCAP-Q 的射频频率是固定的,27.12MHz。若如它宣传的无需匹配箱,那可能是自激式设计,跟平衡驱动无半毛钱关系
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iCAP-Q 的射频频率是固定的,27.12MHz。若如它宣传的无需匹配箱,那可能是自激式设计,跟平衡驱动无半毛钱关系
这点您还真的错的,链接是THERMO的网站:http://www.thermoscientific.cn/product/icap-q-ICP-MS.html  新型、极为耐用的RF发生器采用快速动态频率阻抗匹配技术 ,
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这点您还真的错的,链接是THERMO的网站:http://www.thermoscientific.cn/product/icap-q-ICP-MS.html  新型、极为耐用的RF发生器采用快速动态频率阻抗匹配技术 ,


timstoICPMS 讲的很清楚了:
(2)高频匹配,应该是指 待测样品基体变化时,反射功率能快速匹配,而非 等离子体频率(27.12 MHz或者40.68 MHz)变化
ICP只有两个频率27.12和40.68MHz,是为避免干扰通讯,由国际电信联盟无线电咨询委员会分配,13.56*2=27.12,13.56*3=40.68
根本不存在所谓“动态频率匹配”,匹配只能是“反射功率”
这种厂家的宣传说辞,听听罢了,怎可轻信?
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2016/1/7 20:49:47 Last edit by gz07apple
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