主题:【讨论】ICP-OES干扰的消除

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abcpgf
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我们说IC-OES存在很多干扰因素,其中常见的有光谱干扰、基体效应、电离效应,大家都来说说你是如何消除这些干扰的。
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JOE HUI
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标准加入法,内标法,FACTA校正,更多的是外标法(无干扰情况下)
abcpgf
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JOE HUI
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原文由 abcpgf(abcpgf) 发表:
你们一般采用哪种?
FACTA校正
风云变幻
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abcpgf
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abcpgf
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原文由 JOE HUI(xurunjiao5339) 发表: FACTA校正
看来你用的不错啊。
JOE HUI
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原文由 abcpgf(abcpgf) 发表:
看来你用的不错啊。
主要就是金属中Fe对Pb,Cd的干扰
abcpgf
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Shy WONG
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光谱干扰 :fact
基体效应:稀释或者标准加入
电离效应:加抑制剂
  95%以上的时间是是用外标法,觉得内标法麻烦。
不忘初心
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原文由 Shy WONG(love418wh) 发表:
光谱干扰 :fact
基体效应:稀释或者标准加入
电离效应:加抑制剂
  95%以上的时间是是用外标法,觉得内标法麻烦。
果然是老司机。
手机版: ICP-OES干扰的消除
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