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主题：再谈化学干扰

浏览0 回复8 电梯直达
renzhihai
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发表于：2004/10/20 09:29:00 楼主 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
化学干扰包括分子化合物的形成、电离效应、溶质气化效应。化学干扰的产生主要看基体的类型和分析元素。通常这些效应对ICP技术是没有意义的，但是如果观察到了，可以通过以下技巧消除：
1、工作条件的选择，如功率和观测高度。
2、加入抑电离剂。
3、基体匹配。
4、标准加入法。
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muaiy520
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2004/10/20 21:43:00 沙发 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
电离干扰,碱金属,碱土金属在高密度电离情况下能够影响其它元素的电离平衡.
待测溶液中的阴离子和阳离子形成难电离的化合物,从而影响光谱强度.
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renzhihai
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2004/10/21 6:43:00 板凳 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
楼上所说极是
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mr.cool
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2004/10/21 18:03:00 马扎 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
学到了,学到了,谢谢!
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renzhihai
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2004/10/22 7:32:00 地毯 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
RoHS & WEEE 是什么东东能说说吗？？？？？
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muaiy520
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2004/10/22 11:24:00 地板 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
不懂.
和ICP有关吗?
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renzhihai
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2004/10/22 11:31:00 6楼 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
好象是没有什么太大关系
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9532112
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2007/6/5 9:14:00 7楼 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
我这里有一些ICP干扰的资料,与大家共享!
http://www.21jxhg.com/hxsj/qtyq/200605/11871.shtml
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2007/6/5 9:16:00 8楼 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
谢谢,帮了我!
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