主题:【已应助】质量轴更新后对已确定检测方法的影响

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Insp_1f5fcc5
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请教一下各位老师,例如说我已经完成的对目标化合物的方法开发,使用液质连用,检测化合物的峰面积在10w左右。
在质谱维护更新质量轴后,同样的方法再进样峰面积只有7w,这样正常吗?为什么更新后重新进样响应会下降很多?
推荐答案:Insm_af467669回复于2022/03/30
质量轴校正前摸的离子对和校正后的离子对不一致了,比如校正前(质量轴偏)350.3,校正后再用350.3就不行了,可能需要摸到250.1,250.2才行
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歌名
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1.理论上校正后同一个化合物方法相同、流动相一样、浓度一样的情况下响应差异不会太大。
2.引起响应差异大可能的原因--------质谱维护,很多情况下做LCMSMS的校正都是做了质谱前端甚至更深度的维护后才做校正,而做质谱前端维护和更深度的维护一般都是仪器脏了才会去做,脏了仪器就会影响化合物的响应强度。所以引起楼主的响应强度差异更大可能是做了维护而不是校正哈
Insm_af467669
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质量轴校正前摸的离子对和校正后的离子对不一致了,比如校正前(质量轴偏)350.3,校正后再用350.3就不行了,可能需要摸到250.1,250.2才行
Dxhuang
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重新扫一下离子,大概率能解决问题。。30%的响应偏差,可能是因为质量轴修正回去以后导致的。
hujiangtao
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质量轴校正后加在四级杆射频电压会有变化,待测物原来的质谱条件也需要重新调谐,设置MRM方法时一般把质荷比±0.2能在最大范围内采集目标物
Insp_1f5fcc5
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原文由 歌名(Ins_eedcdc41) 发表:1.理论上校正后同一个化合物方法相同、流动相一样、浓度一样的情况下响应差异不会太大。2.引起响应差异大可能的原因--------质谱维护,很多情况下做LCMSMS的校正都是做了质谱前端甚至更深度的维护后才做校正,而做质谱前端维护和更深度的维护一般都是仪器脏了才会去做,脏了仪器就会影响化合物的响应强度。所以引起楼主的响应强度差异更大可能是做了维护而不是校正哈
有什么办法可以修正这种变化
Insp_1f5fcc5
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原文由 Dxhuang(Insm_7cc623c4) 发表:重新扫一下离子,大概率能解决问题。。30%的响应偏差,可能是因为质量轴修正回去以后导致的。
那就相当于重新找离子对的过程?
Insp_1f5fcc5
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原文由 Dxhuang(Insm_7cc623c4) 发表:重新扫一下离子,大概率能解决问题。。30%的响应偏差,可能是因为质量轴修正回去以后导致的。
确实,这样有改善
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