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气质联用（GCMS）
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主题：【已应助】安捷伦气质联用

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发表于：2022/05/14 14:37:25 楼主 管理 分享 倒序浏览 查看全部 回复 私聊
1 用气质跑出来 开始的基线很不稳定 这是什么原因呀
2如果在一段时间内气质不出峰 是不是应该调慢这一段的升温速度呀？
3 跑出来含硅物质多 是不是因为测的是鱼，本来气味小
推荐答案：通标小菜鸟回复于2022/05/14
1、气质跑出来基线开始不稳定有两种情况，一种是仪器不稳定，导致基线漂移，另一种是样品原因，样品基质复杂导致基线不平。

2、一段时间内不出峰，是不是要调慢这一段出峰速度？关于升温程序优化，是针对出峰部分的，对于不出峰的时间段，一般都是加快升温速率，目的是缩短走样时间，提高效率。而楼主如果要调慢出峰速率，这是针对出峰近，几个峰靠在一起，分离度低，这时候降低出峰速度有利于提高分离度。

3、跑出来含硅物质多，不一定是样品原因，也有可能是柱流失，隔垫流失造成的，楼主首先需要在不进样品，在走空白溶剂的条件下运行升温程序，如果走出来基线比较平齐，没有含硅特别是硅氧键物质，那说明是样品带来的，反之则是仪器本底
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2022/5/14 21:59:20 沙发 管理 分享 倒序浏览 查看全部 回复 私聊
1、气质跑出来基线开始不稳定有两种情况，一种是仪器不稳定，导致基线漂移，另一种是样品原因，样品基质复杂导致基线不平。

2、一段时间内不出峰，是不是要调慢这一段出峰速度？关于升温程序优化，是针对出峰部分的，对于不出峰的时间段，一般都是加快升温速率，目的是缩短走样时间，提高效率。而楼主如果要调慢出峰速率，这是针对出峰近，几个峰靠在一起，分离度低，这时候降低出峰速度有利于提高分离度。

3、跑出来含硅物质多，不一定是样品原因，也有可能是柱流失，隔垫流失造成的，楼主首先需要在不进样品，在走空白溶剂的条件下运行升温程序，如果走出来基线比较平齐，没有含硅特别是硅氧键物质，那说明是样品带来的，反之则是仪器本底
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