主题:【已应助】为什么进样时样品的香气物质峰响应值低,却出现多个峰面积大且重复性好的含硅杂质峰

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Ins_d0f852e8
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原文由 通标小菜鸟(v3141805) 发表:
1、气质目标物响应值低的原因可能有:样品浓度过低,需要提高进样浓度;进样口吸附,可以更换隔垫,衬管,切割色谱柱头;离子源脏了,造成仪器目标物响应低,可以增加增益因子或者清洗离子源提高响应。-------------------------------

2、出现含硅的物质,一般气质出现含硅,特别是含硅,含氧的烷烃类物质,多半是柱流失造成的,可以通过老化色谱柱进行缓解。还有可以是来源于样品本身,或者样品本身基质的影响会造成柱流失。
有原本2g的样品增加到5g,效果不明显
如果是配置有问题,但是正构烷烃出峰正常做解释
symmacros
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原文由 Ins_d0f852e8(Ins_d0f852e8) 发表:
HS-SPME,用的是DVB/CARB WR/PDMS-120um的吸附头,色谱柱是C18柱
那就是来自萃取头的流失。
物价真高
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symmacros
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原文由 Ins_d0f852e8(Ins_d0f852e8) 发表: 有原本2g的样品增加到5g,效果不明显如果是配置有问题,但是正构烷烃出峰正常做解释
对的,增加样品量峰响应增加不会很多,非常有限,因为是一个平衡体系。
fjj1989
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硅氧杂质峰是SPME萃取头流失导致的。正构烷烃是直接液体进样的吧 所以不存在流失的影响。
Ins_a369e43c
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