1. 基体干扰:石墨炉干扰比火焰多很多用一张图简要说明
特征辐射在火焰中观察到的是温度相对稳定而又均匀的区间,光束方向与温度梯度方向垂直。石墨炉正相反,光束方向与温度梯度的方向是一致的。再加上温度随时间的变化,分析物原子蒸汽的形成和消失过程始终不在热平衡中,其热解离过程变得不可控制。这就形成了
气相干扰。
2.
气相干扰是非光谱干扰,(我在这里引用IUPAC即国际纯粹和应用化学联合会的定义*)不能用背景校正的方法解决。反之。如果发现背景吸收(在进行背景校正时),必须同时观察其对
原子吸收的影响,高背景意味着高浓度的基体蒸汽,分子的光解离(分子吸收)必然影响待测物的解离平衡。在背景吸光度很高时,通常(此时)对
原子吸收信号有抑制,甚至可能出现双峰。(为什么要观察全部原子化信号就是这个道理)
3. 光谱干扰,石墨炉
原子吸收光谱干扰比火焰中多
共存物吸收线的重叠:(1)石墨炉原子化器的温度远远高于火焰原子化器,许多元素的非灵敏线由于处于该能级跃迁的原子个数随温度增高而大量增加.原来不易观察到的吸收谱线出现了。(2).石墨炉
原子吸收的灵敏度远高于火焰,也就是说,在原子化器内共存物的浓度可以很高,其干扰在火焰中观察不到而在石墨炉中会很明显。
背景衰减:同样密集而停留时间长的共存物分子蒸汽,造成高背景衰减。
需要加入基体改进剂,有可能引起光谱干扰。
因此,石墨炉分析需要好的背景校正。
4. 石墨炉中校正曲线更弯:
原子吸收中校正曲线变弯的因素有:
(1).光谱通带中的非特征辐射;
(2).绕过火焰的特征辐射;
(3).光源辐射线的自吸变宽;
(4.)高浓度时,吸收线中心波长的位移;
(5.)光谱通带中存在两条或两条以上待 测元素的特征谱线,并且它们的吸收系数不同;
(6).电离干扰.
在石墨炉
原子吸收光谱分析中(2)不存在,但是由于原子蒸汽在石墨管截面是不均匀的,光束通过原子化器的不同部位(从截面看),如同有不同灵敏度的吸收,就是(5)变得极其普遍!
另外,由于原子蒸汽是一个生成消失的过程,只要停留时间不是很长,吸光度对于原子个数不是成正比的(即:非线性的)。(人们会发现,新旧石墨关校正曲线不同,旧石墨管得到的曲线要弯些,因为,原子蒸汽从管壁逸出,改变了信号的动力学特性。你会发现,原子化停气校正曲线要弯些。以注入不同浓度相同体积进行校正比注入相同浓度不同体积来校正好。加入基体改进剂,延迟蒸发会使校正曲线变好,…等等)
不要试图一定用线性校正曲线。
5. 石墨炉分析中最不确定的因素是石墨管,有问题常找它;
石墨炉分析中最头疼的问题是污染。容器,水,试剂,环境,操作都有可能;
石墨炉分析最忌讳总使用仪器里面的加热参数。对不同的样品,不同批次的石墨管,都要进行试验。
以上是最简要的说明,供参考。