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主题：【已应助】en 71-3:2019六价铬方法确认

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feisufei11
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发表于：2019/11/05 08:31:03 楼主 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
各位朋友，

    大家好！最近在做EN 71-3：2019六价铬的方法确认，用ic-ICPMS测试，买了一个万通的ic连PE的ICPMS 300x，由于只有一路气只能用了CH3气体做反应气，Cr52有CIO干扰无法去除，导致Cr6+前面有一个很大干扰峰无法去除。目前最麻烦的事是空白一直做出来比标液峰面积和峰高都大很多，已经重新配制依旧如此。按照标准配制标液，0.02,0.04,0.08,0.12,0.16ppb，线性倒是呈线性，但是每次做出来线性都只有98多。请问各位可能是什么原因导致空白和线性不好？
推荐答案：小卡回复于2024/09/20
空白比标液峰面积和峰高都大很多，有可能是实验过程中引入了污染，比如试剂、容器或者环境中的污染。可以检查一下所用的试剂是否纯净，容器是否清洗干净，实验环境是否干净整洁。线性不好可能是仪器的稳定性问题，或者标液配制不准确。可以多做几次标液配制和测试，确保标液的准确性。也可以检查一下仪器的参数设置是否合适，比如气体流量、温度等。另外，干扰峰无法去除可能需要进一步优化实验条件，比如调整反应气的种类或者流量，或者采用其他的去除干扰的方法。希望这些建议能对你有所帮助
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2024/9/20 14:48:15 沙发 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
空白比标液峰面积和峰高都大很多，有可能是实验过程中引入了污染，比如试剂、容器或者环境中的污染。可以检查一下所用的试剂是否纯净，容器是否清洗干净，实验环境是否干净整洁。线性不好可能是仪器的稳定性问题，或者标液配制不准确。可以多做几次标液配制和测试，确保标液的准确性。也可以检查一下仪器的参数设置是否合适，比如气体流量、温度等。另外，干扰峰无法去除可能需要进一步优化实验条件，比如调整反应气的种类或者流量，或者采用其他的去除干扰的方法。希望这些建议能对你有所帮助
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