主题：光谱校正原理之二-----在峰法

2.光谱校正原理之二在峰法：
在峰法即把所有光谱子扰都作为“空白”值来进行校正，直接在分析线蜂值波长位置分别测量不含分析物的样品(即空白样品)及含有分析物的样品(一般样品)的谱线强度值，并以前者所得强度值作为干扰强度Ii，(包括空白强度和背景强度等)，后一强度值为表观强度Ix+i,为校正方便，可以把干扰强度直接换算为与分析物浓度相当的所谓“净空白等效浓度”或“背景等效浓度”(“BEC”)，然后从Ix+i所对应的分析物表现浓度中扣除，当不考虑自吸收的影响时，分析线强度与分析物浓度的关系为
  Ix=SxCx  (3)
而干扰强度与干扰物浓度的关系为
  Ii=SiCi  (4)
式中Sx和Si，分别是在分析线波长位置相应校准曲线的斜率，即灵
敏度。Cx和Ci，分别是分析物浓度和干扰物浓度。由式(3)及(4)得分析线表现强度(Ix+i)为
Ix+I= Ix+Ii=SiCi+SxCx
=Sx(SiCi/Sx +Cx)
= SxCx\  (5)
式中Cx\：＝SiCi/Sx +Cx：即为分析物的表观浓度，即末校正干扰的
分析物浓度)，其中SiCi/Sx或Ii／Sx即定义为“净空白等效浓度”或“背景等效浓度”，并以Ceq或BEC表示，即
Ceq=BEC=SiCi/Sx=Aci    (6)
其中A＝Si／Sx即为干扰系数。当分析线受多种成分干扰时，总的Ceq或BEC将等于各干扰成分的“等效浓度”之和，即
    Ceq＝Ceq1十Ceq2十Ceq3….
    ＝A1Ci1十A2Ci2十A3Ci3…
    ＝Σ(AjCij)=BEC          (7)
而分析物浓度Cx：为
    Cx＝Cx\—Ceq(or BEC)      (8)
由于表现浓度Cx和各干扰成分的(Ceq)j成(BEC)j，值很容易由该波长位置的相应校难曲线得到,校准曲线的斜率一般Si《Sx ，因而光谱干扰可由式(7)和(8)方便地校正。现在已经出现了许多用于光谱干扰校正的ICP光谱波长表，可以查阅有关文献。
    如果干扰强度Ii与干扰物浓度Ci的关系为非线性关系，则Ceq(or BEC)与Ci之间的关系为二次曲线，可用下式表示:
Ceq=ACi+BCi2
式中A和B分别为一级和二级干扰系数。B一般为负值(有时亦
出现正值，原因末明)，其绝对值比A值平均约小4个数量级。
应该指出，这种“在峰”空白及相应干扰系统校正法，是以ICP放电具有良好的时间稳定性作为前提条件的，因为“空白”值和表观浓度系在不同的时间内，分别出不同的样品——空白样品和分析样品来提供的，如果没有不含分析物的空白样品可利用，这种校正方法将变得更为复杂。
    近代商品ICP发射光谱仪，无论多道仪器或单道仪器，一般
都带有计算机控制的自动校正光谱干扰的装置(离峰或在在峰校正)。