主题:【讨论】马尔文测量结果的残差

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redyanlzh
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这也不好,那也不好,但现实问题是你总要拿出一个折射率来啊?
我认为在没有更好的方法情况下,通过残差来确定折射率是可行的,在残差大于1的情况下(有时候甚至好几)把它控制在1以内是必要的,
样品如果经过气流粉碎后一般分布还是比较均匀的,偏向于一种正态分布,但如果因折射率的不确定,残差大于1甚至是2以上,此时的频率曲线图将凹凸不平,所以但你选择了合适的折射率后,分布图也就偏向于一种正态分布,此时残差一般也就零点几吧。

当然根本的办法是能够较方便的测定固体折射率了~~~
人来人往
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原文由 redyanlzh 发表:
这也不好,那也不好,但现实问题是你总要拿出一个折射率来啊?
我认为在没有更好的方法情况下,通过残差来确定折射率是可行的,在残差大于1的情况下(有时候甚至好几)把它控制在1以内是必要的,
样品如果经过气流粉碎后一般分布还是比较均匀的,偏向于一种正态分布,但如果因折射率的不确定,残差大于1甚至是2以上,此时的频率曲线图将凹凸不平,所以但你选择了合适的折射率后,分布图也就偏向于一种正态分布,此时残差一般也就零点几吧。

当然根本的办法是能够较方便的测定固体折射率了~~~


假设同种物质的多种种样品,粒度均为正态分布但区间不同,其混合物的粒度分布多半不会是正态的,残差一般不能满足<1的要求,如果通过更改光学参数的方法来获得理想的结果,未免有点自欺欺人
恶狼
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不用想那么多了,如果残差大于某一个值,软件就会在次拟合直到范围内。所以只要它给你结果的话就不用担心了
jacoblin
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原文由 fanjilai 发表:
马尔文人员说,其测试结果的残差越小结果越准确,当测试结果出来后如果对结果不满意可以改变折射率,改变几个折射率后在其中找出残差最小的那个折射率计算的结果做为最好结果,对这样的做法我表示怀疑态度,因为残差代表的是结果的反演精度,并不代表残差越小越接近真实结果,不同的折射率对应着不同的Mie矩阵,不同的矩阵的病态性有所区别,那么反演的精度自然不一样,和结果的真实性没有必然的联系,比如一个样品的真实折射率虚部是0.1,在这个折射率下的残差是0.5,当把虚部换为0,计算的残差确为0.1,残差是小了,但结果确不比原来更准确了.所以说变折射率来寻找残差最小的做为最后结果是完全没有道理的,和理论也是完全不符的.我认为在马尔文仪器中只有在确定真实折射率的前提下,来改变软件中的几种计算模型(通用,多峰,单峰),来找到一个残差最小的模型计算出来的结果做为最后结果还是有一定道理的,但前提是光散射信号的采集精度要足够高.  以上是我的个人看法,请大家讨论.


残差是根据米氏理论,针对选定光学模型,光学参数和最终结果计算出的光强数据与实际检测光强的差异。并不是越小越好,0.5与0.8残差值并不表示0.5的残差结果就比0.8的准确,一般认为小于3%都是可以接受的。残差的用途可以判断光学参数是否正常,模型是否准确。
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原文由 jacoblin 发表:
残差是根据米氏理论,针对选定光学模型,光学参数和最终结果计算出的光强数据与实际检测光强的差异。并不是越小越好,0.5与0.8残差值并不表示0.5的残差结果就比0.8的准确,一般认为小于3%都是可以接受的。残差的用途可以判断光学参数是否正常,模型是否准确。


我认为,残差的大小与两个因素有关,需要同时满足残差才比较小:
光学参数是否正确,分布是否均匀单一。
如果是分布复杂的样品测得残差很小,那很可能是光学参数设置错了
fanjilai
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原文由 free365 发表:
原文由 jacoblin 发表:
残差是根据米氏理论,针对选定光学模型,光学参数和最终结果计算出的光强数据与实际检测光强的差异。并不是越小越好,0.5与0.8残差值并不表示0.5的残差结果就比0.8的准确,一般认为小于3%都是可以接受的。残差的用途可以判断光学参数是否正常,模型是否准确。


我认为,残差的大小与两个因素有关,需要同时满足残差才比较小:
光学参数是否正确,分布是否均匀单一。
如果是分布复杂的样品测得残差很小,那很可能是光学参数设置错了


残差的大小和样品分布没有关系,和光学参数关系不大,最主要的影响因素是反演算法.算法是否能正确解开病态方程组是关键,其实残差也可以理解为实际解与真实解的偏差.无测量误差情况下残差越小越精确,但实际测试的时候信号误差是不可避免的,所以残差不一定最小粒度分布最好,只要把残差控制在一个数值以下就可以,比如2%以下.
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原文由 fanjilai 发表:

残差的大小和样品分布没有关系,和光学参数关系不大,最主要的影响因素是反演算法.算法是否能正确解开病态方程组是关键,其实残差也可以理解为实际解与真实解的偏差.无测量误差情况下残差越小越精确,但实际测试的时候信号误差是不可避免的,所以残差不一定最小粒度分布最好,只要把残差控制在一个数值以下就可以,比如2%以下.


这与我以前接触的马尔文工程师及学校老师的观点不同,上述说法是不是表达得有点不准确?

  计算方法是核心,计算结果要受到分布及光学参数的影响,因为模型及光学参数要参与计算,分布的复杂程度影响了模型的适用性?





fanjilai
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原文由 free365 发表:
原文由 fanjilai 发表:

残差的大小和样品分布没有关系,和光学参数关系不大,最主要的影响因素是反演算法.算法是否能正确解开病态方程组是关键,其实残差也可以理解为实际解与真实解的偏差.无测量误差情况下残差越小越精确,但实际测试的时候信号误差是不可避免的,所以残差不一定最小粒度分布最好,只要把残差控制在一个数值以下就可以,比如2%以下.


这与我以前接触的马尔文工程师及学校老师的观点不同,上述说法是不是表达得有点不准确?

  计算方法是核心,计算结果要受到分布及光学参数的影响,因为模型及光学参数要参与计算,分布的复杂程度影响了模型的适用性?

是啊,有可能观点不正确.这只是我个人的看法.如有能准确的,让人信服的描述请帖出来学习学习.



该帖子作者被版主 free3652积分, 2经验,加分理由:欢迎深入讨论!
jacoblin
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原文由 fanjilai 发表:
原文由 free365 发表:
原文由 jacoblin 发表:
残差是根据米氏理论,针对选定光学模型,光学参数和最终结果计算出的光强数据与实际检测光强的差异。并不是越小越好,0.5与0.8残差值并不表示0.5的残差结果就比0.8的准确,一般认为小于3%都是可以接受的。残差的用途可以判断光学参数是否正常,模型是否准确。


我认为,残差的大小与两个因素有关,需要同时满足残差才比较小:
光学参数是否正确,分布是否均匀单一。
如果是分布复杂的样品测得残差很小,那很可能是光学参数设置错了


残差的大小和样品分布没有关系,和光学参数关系不大,最主要的影响因素是反演算法.算法是否能正确解开病态方程组是关键,其实残差也可以理解为实际解与真实解的偏差.无测量误差情况下残差越小越精确,但实际测试的时候信号误差是不可避免的,所以残差不一定最小粒度分布最好,只要把残差控制在一个数值以下就可以,比如2%以下.


残差是理论值与实际值的差异(光强数据)。残差当然与光学参数有关了,光学参数是米氏理论根据衍射光强推导粒径分布的重要参数之一。残差大小与样品分布没有太大关系,并不是分布大残差就大了。
可以做个简单验证,对于测量结果重新编辑(光强数据是不可编辑的),修改物质的光学参数,或者修改物质分析模型,会得到新的测量结果,残差也会有较大变化。
激光衍射法测量粒径实际是根据光强数据,利用光学参数和分析模型根据米氏理论推导粒径,但是推导的粒径结果不唯一,为此根据推导的粒径结果在反演出光强数据,以偏差最小的粒径结果作为最终结果。
影响残差就两个因素:
1,光强数据,意味着这次测量是失败的,样品分散差,测量信号差,必须重测;
2,光学模型和光学参数的选择,可以通过编辑结果,修改光学模型或光学参数得到正确的结果。
particlesize
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残差应该是指在数学意义上的计算精度,一般在反问题的计算上提及,越小计算精度越高,但在工程实践中残差不一定越小计算结果就越精确,因为要考虑到测量误差,残差和测量误差有可能互相抵消,但测量精度控制在一定范围内,残差也要控制一定范围内,不能让其任意大.
对残差的影响因素只有计算方法,即反问题的求解数学模型.至于计算前的基础矩阵和向量不会影响.当改变基础矩阵或向量时,结果残差会改变,这是因为数学模型即算法的适用性所影响,不可算做矩阵和向量的影响.
那么激光粒度仪中的光学模式就是基础矩阵,测量信号就是向量.不知可否这样理解?
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