主题：【讨论】关于“采样深度对目标信号的影响”

原文由 nps 发表:
在一篇文献中看到有一段话——“在常规等离子分析条件下，采样深度代表的是工作线圈到采样锥的距离，一定范围的采样深度能够使得样品完全离子化，同时保证减少其他离子（氧化物及二价离子）的形成和影响”。
    请问各位，其中的“一定范围的采样深度能够使得样品完全离子化”这句话是否正确？

    个人觉得元素在等离子火焰中离子化程度跟本身的电离能和工作线圈上加的功率有关，和采样深度貌似没有什么关系吧？

原文由 nps 发表:
在一篇文献中看到有一段话——“在常规等离子分析条件下，采样深度代表的是工作线圈到采样锥的距离，一定范围的采样深度能够使得样品完全离子化，同时保证减少其他离子（氧化物及二价离子）的形成和影响”。
    请问各位，其中的“一定范围的采样深度能够使得样品完全离子化”这句话是否正确？

    个人觉得元素在等离子火焰中离子化程度跟本身的电离能和工作线圈上加的功率有关，和采样深度貌似没有什么关系吧？

原文由 highspeed_v 发表:

原文由 nps 发表:
在一篇文献中看到有一段话——“在常规等离子分析条件下，采样深度代表的是工作线圈到采样锥的距离，一定范围的采样深度能够使得样品完全离子化，同时保证减少其他离子（氧化物及二价离子）的形成和影响”。
    请问各位，其中的“一定范围的采样深度能够使得样品完全离子化”这句话是否正确？

    个人觉得元素在等离子火焰中离子化程度跟本身的电离能和工作线圈上加的功率有关，和采样深度貌似没有什么关系吧？

楼上的说的对，我再补充补充，不知道楼主看的是什么文献，有如下几点错误：
1.工作线圈到采样锥的距离是固定的，采样深度应该是指等离子体火焰到锥口的距离。
2.样品不可能完全离子化，只能说离子化效率高

原文由 highspeed_v 发表:
更正一下，上回说错了，线圈到锥距离不是固定的。不过我还是认为从线圈到锥的距离不能称为采样深度。

采样深度对解离是有影响的，这也是cool plasma与hot plasma采样深度不同的原因

原文由 yanming19840812 发表:

原文由 highspeed_v 发表:
更正一下，上回说错了，线圈到锥距离不是固定的。不过我还是认为从线圈到锥的距离不能称为采样深度。

采样深度对解离是有影响的，这也是cool plasma与hot plasma采样深度不同的原因

cool plasma与hot plasma 是RF 线圈的功率大小不同 貌似和采样深度 没关系
它们的采样深度 可以一样的

原文由 yanming19840812 发表:

原文由 highspeed_v 发表:
更正一下，上回说错了，线圈到锥距离不是固定的。不过我还是认为从线圈到锥的距离不能称为采样深度。

采样深度对解离是有影响的，这也是cool plasma与hot plasma采样深度不同的原因

cool plasma与hot plasma 是RF 线圈的功率大小不同 貌似和采样深度 没关系
它们的采样深度 可以一样的

原文由 zhengxxx 发表:

原文由 yanming19840812 发表:

原文由 highspeed_v 发表:
更正一下，上回说错了，线圈到锥距离不是固定的。不过我还是认为从线圈到锥的距离不能称为采样深度。

采样深度对解离是有影响的，这也是cool plasma与hot plasma采样深度不同的原因

cool plasma与hot plasma 是RF 线圈的功率大小不同 貌似和采样深度 没关系
它们的采样深度 可以一样的

一般冷焰的采样深度还是要大一些，保证足够的电离时间
同时各路ICP气体也要适当的增大一点