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主题：【求助】ICP-MS，半导体行业，做标准曲线，标准加入法，总是出现才加标的第一点总是在曲线下方，为什么？是因为环境污染还是因为初次加标就是这样的情况？

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风起云飘舞
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发表于：2008/12/09 21:30:40 楼主 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
ICP-MS，半导体行业，做标准曲线，标准加入法，总是出现才加标的第一点总是在曲线下方，为什么？是因为负污染还是因为加标的第一点融入到硝酸基体中，所得的计数值就低点？或者需要注意什么？当相关系数r为两个9时，这样做出来的数据可以吗？
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2008/12/10 8:29:19 沙发 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
原文由 zhckj 发表:
ICP-MS，半导体行业，做标准曲线，标准加入法，总是出现才加标的第一点总是在曲线下方，为什么？是因为负污染还是因为加标的第一点融入到硝酸基体中，所得的计数值就低点？或者需要注意什么？当相关系数r为两个9时，这样做出来的数据可以吗？


基体是硅还是其它的
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醉卧红尘
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2008/12/10 15:20:27 板凳 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
线形为2个九时，误差比较大，尤其半导体行业，最起码应该在3个九以上吧。
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2008/12/10 22:38:26 马扎 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
原文由 zhengxxx 发表:
原文由 zhckj 发表:
ICP-MS，半导体行业，做标准曲线，标准加入法，总是出现才加标的第一点总是在曲线下方，为什么？是因为负污染还是因为加标的第一点融入到硝酸基体中，所得的计数值就低点？或者需要注意什么？当相关系数r为两个9时，这样做出来的数据可以吗？


基体是硅还是其它的

是硅，
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2008/12/10 22:39:30 地毯 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
原文由 wenhuih 发表:
线形为2个九时，误差比较大，尤其半导体行业，最起码应该在3个九以上吧。

但是想把所有的都做成3个九以上太难了，基本是不肯能实现的，特别当浓度很低的时候，PPT
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2008/12/11 0:19:32 地板 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
有一种可能是样品基体还没有在ICP以及锥口上实现平衡
一般如果低点线性不好还应该伴随着较差的精度吧
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nps
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2008/12/11 20:16:41 6楼 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
原文由 zhckj 发表:
原文由 zhengxxx 发表:
原文由 zhckj 发表:
ICP-MS，半导体行业，做标准曲线，标准加入法，总是出现才加标的第一点总是在曲线下方，为什么？是因为负污染还是因为加标的第一点融入到硝酸基体中，所得的计数值就低点？或者需要注意什么？当相关系数r为两个9时，这样做出来的数据可以吗？


基体是硅还是其它的

是硅，

有可能基体浓度高了，对低浓度的标准影响比较大...
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chauchylan
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2008/12/12 17:22:41 7楼 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
在添加时,通常建议第一个添加的量应使被分析的量增加100%,随后的添加量与第一个添加相同...这样可减小误差...
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2008/12/21 13:35:12 8楼 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
现在延长样品的进样稳定时间了，基本解决了低点偏低的状态。只是每次每个浓度点进样两次，然后再修改曲线，去除高点，不知道这样的做法是否可取？
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taolun
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2008/12/22 15:40:21 9楼 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
这种做法不可取,应找出问题原因所在,再进行处理,否则不能保证测试结果的准确性.

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kiwi-kids
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2008/12/22 16:12:05 10楼 管理 分享 倒序浏览 只看楼主 回复 私聊
原文由 zhckj 发表:
现在延长样品的进样稳定时间了，基本解决了低点偏低的状态。只是每次每个浓度点进样两次，然后再修改曲线，去除高点，不知道这样的做法是否可取？


如果基体太高，进样过程会不断伴随着灵敏度漂移，那么标准加入法的意义就不大了
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