主题:秀下----离子研磨机

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refractories
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这样做是不是很费时间?如果在工业生产上不能普及吧?
原文由 forzamarco 发表:
发射源跟REXIN大侠之前说的离子显微镜有点相似,用氩气在最高4kV的电压下电离,电离产生的离子束在最高6kV的加速电压下加速撞击到样品上,离子束并没有经过镜片的收束,到达样品上的束径会在150um左右,用此高能量的离子束,再加上样品在样品室里的摆动,就可以将样品上击打出一道沟槽.每次研磨的时候,将样品欲观察的区域放置在离子束击打的区域(在光学显微镜下调整位置),经过几个小时的离子研磨,就可以观察到第一张图片的效果了.
flyer84
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据我所知,现在Gatan有一款叫Ilion的专做截面样品的设备,有CCD实时观察;并且有冷台,生物样品同样很适用;配备的双gun,使得加工时间大大缩短。
wbslandy
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原文由 flyer84(flyer84) 发表:
据我所知,现在Gatan有一款叫Ilion的专做截面样品的设备,有CCD实时观察;并且有冷台,生物样品同样很适用;配备的双gun,使得加工时间大大缩短。


                          你说的是GATAN Precision Coating机的Etching模式吧?  双枪好像每次只用一个Gun,轮流着备用的。
wbslandy
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原文由 icewine2000(icewine2000) 发表:
我以前玩过其他牌子的ion milling,感觉最大的问题就是太慢花的时间太久,上一天班才能做一个样品实在是受不了。而且很多样品是不透明的,从上面根本就无法放标尺定位,而且也不能一边磨一边看。实在是很鸡肋的产品。。。


                        呵呵,跟这位老兄同感, 我们的那台CP除了偶尔一些重要的失效分析case启用它外,其他大部分时间都是闲置在那。
                如果它是经常做某一种类型的样品,它的效率会高点。 但如何经常是一些不同材质或多层材质的拿来做CP,要想出好的断面效果,光摸索合适的电流电压就够你受的。电流小了CP时间又长了,电流电压大了表面又打粗糙了。。。。。。。。。反正很麻烦,一般我能用FIB就尽量用FIB。

                         
flyer84
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原文由 wbslandy(wbslandy) 发表:
原文由 flyer84(flyer84) 发表:
据我所知,现在Gatan有一款叫Ilion的专做截面样品的设备,有CCD实时观察;并且有冷台,生物样品同样很适用;配备的双gun,使得加工时间大大缩短。


                          你说的是GATAN Precision Coating机的Etching模式吧?  双枪好像每次只用一个Gun,轮流着备用的。


不是,是Gatan的另一款设备,叫Ilion+™ Precision Cross-Section System,也叫693,效率很快。
琪琪error
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只做一个样,这设备太贵了,哪里可以借用离子研磨机?
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