原文由 asahi42(asahi42) 发表:
这个,根据我现有的认识,喷了金以后,金峰会对峰位置相近的元素结果造成干扰,并且可能会对含量低的元素的出峰产生影响。所以一般不导电样品做EDS,喷碳不喷金。但是目前能谱厂家都能够有预设样品已喷金的选项,通过对结果的后处理,将喷金的影响降低到最低限度。
不导电直接分析的话,样品上荷电的积累容易导致点对点分析的定位不准确以及mapping分析的漂移。
如果用低真空来避免荷电影响,在低加速电压下,低真空可能会使电子束扩散,因此要使用自带的X-ray cone;在高加速电压下,可能会影响部分计数率,所以要适当增加束流。
抛砖引玉~具体正确与否,请fengyonghe专家和Sept专家指正~
原文由 asahi42(asahi42) 发表:好详细啊
这个,根据我现有的认识,喷了金以后,金峰会对峰位置相近的元素结果造成干扰,并且可能会对含量低的元素的出峰产生影响。所以一般不导电样品做EDS,喷碳不喷金。但是目前能谱厂家都能够有预设样品已喷金的选项,通过对结果的后处理,将喷金的影响降低到最低限度。
不导电直接分析的话,样品上荷电的积累容易导致点对点分析的定位不准确以及mapping分析的漂移。
如果用低真空来避免荷电影响,在低加速电压下,低真空可能会使电子束扩散,因此要使用自带的X-ray cone;在高加速电压下,可能会影响部分计数率,所以要适当增加束流。
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不导电直接分析的话,样品上荷电的积累容易导致点对点分析的定位不准确以及mapping分析的漂移。
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