国家质检总局最新发布的国家标准中,多晶硅表面金属杂质分析名列其中:
GB/T 24579-2009 酸浸取
原子吸收光谱法测定多晶硅表面金属污染物
GB/T 24582-2009 酸浸取电感耦合等离子质谱仪测定多晶硅表面金属杂质
还有一些其他相关标准:
GB/T 24581-2009 低温傅立叶变换红外光谱法测量硅单晶中III、V族杂质含量的测试方法
GB/T 24574-2009 硅单晶中Ⅲ-Ⅴ族杂质的光致发光测试方法
GB/T 1558-2009 硅中代位碳原子含量红外吸收测量方法
GB/T 12963-2009 硅多晶