主题：【讨论】涅槃园地

原文由 wbslandy(wbslandy) 发表:
很久没有光顾这个坛子了。
呵呵，谢谢你位段兄弟给我的高帽， 你这请教的架势颇有乃师风范哦！(^-^)
看在你是安徽家乡高校学生的份上，跟你粗聊几句：
1. 作为初学者，这个论坛本身就是个绝好的学习地方，你没必要到处欠人情似的到处找人去受教；在这个论坛学习后，你再看看电镜理论方面的材料， 再给你一台机子，实际操作几个月，保证你操作方面不会比你老师差，凭着年轻人的悟性，你甚至会比你老师做得更好
        个人认为，电镜的应用比起单纯的操作更为重要，如果仅论操作的话，我这里就有高中生操作得很熟练，我们这里十几台电镜每天24小时运行，她们想不熟练都不行， 但他们也仅仅停留在熟练程度上而已，虽然也常常向她们主管炫耀拍得清晰拍得快，但问起为什么能用电镜来表征，来表征什么，她们就晃脑了。
      作为电镜操作人， 要熟悉自己电镜的性能优势与缺点，在排除人的因素的情况下，同一型号的电镜的性能有差别，即使是同型号同一台机子放在不同的环境中它表现出来的性能也有差别，我的意思还是，要注重它的应用，正如腰挂宝剑，不是炫耀宝剑有多锋利，而是要用它来干什么？
2. 等哪天我也退休了，也学坛子里的冯老师一样在这里闲云野鹤一番，现在还真没充足的时间泡在网上发帖， 更何况言传不如身教，表面分析是一门实用性非常强的工作， 你不自己独立真正做case，是很难有深切体会的。

3. 附件是我给三星做的有关硬盘磁碟上一颗内嵌的氧化铝微颗粒来源的分析， 大家都知道Al在空气中很容易氧化，表层形成一层氧化膜， 那么微小的纯铝碎屑一般用EDX打（低电压打，不能用高电压，高了就穿透太多了），也是Al/O峰较高， 很难判断这个小颗粒到底本身就是AlOx, 还是生产线上的平移轨道(Al材质)上的纯Al碎屑掉到磁盘上后氧化而形成的氧化铝， 我们用JSM6700-SEM, HITACHI S-5200 SEM/NORAN 能谱做初步分析，然后用俄歇能谱加Ar离子枪溅射层层剥离技术，剥一分钟，测一次Al/O比例， 得出Al/O随深度分布的曲线， 如果越到颗粒内部，氧含量越来越少，而AL含量越来越趋于稳定，那就说明这个小颗粒一开始就是纯铝， 如果Al/O比例越来越于稳定， 那就说明这个particle原本就是氧化铝， 而不是后氧化的。
－－－－－－－－－－－以上是关于SEM/EDX/AFM/AES/Ar离子溅射一起应用的实例， 就当抛砖引玉吧！
我知道，SEM应用远不止这些， 欢迎大侠们展示和指正。

哈哈，也有阵子没来了，多谢提供的资料，粗看了下，学的太浅不懂的很多，但是分析的方法和报告模式我还是受教了

chenjianfeng：so long, not so easy to be finished. thanks.

原文由 linzq(linzq) 发表:
今天一天的实验，没来得及更新页面下面用几张刚拍的二氧化硅照片充充数。二氧化硅导电性不好越是大的样品越是不好搞，这些个样品都是几微米大小，用5KV基本无法拍

5KV,TV模式拍

改用20KV选比较分散的。如果不看表面细节还是很不错的


林老师：您的拍得相当漂亮！
我是初学者，有点不懂的地方。想请教下您！
1、你说的是5kV下的电荷效应严重，而用20kV时，电荷效应消除明显。一般来说，不是电压越高，电荷效应会越明显吗？这个有点不太理解。
2、这边你说的是在高加速电压的电荷效应小，但是您所用的感兴趣区域不是一个地方。好像说服力不是很好！因为在前面说，分散好、颗粒小时，电荷效应也小。所以您这边的说法是否会有点勉强？望您解答！
3、关于LA0的解释为低角度的背散射电子数为0。能否跟说明下，机器是怎么保证为0的？以及测试该数目的方法！谢谢！