主题:【求助】X荧光光谱仪排除干扰方法

浏览0 回复17 电梯直达
cearo
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不知道哪位大侠熟练使用热电的x荧光光谱仪,怎么样可以排除耐火材料中Si和Al的相互干扰?
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sxdjj
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这个不好排除,在无素周期表中太近了,有很多相同属性啊。
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2010/5/20 8:48:41 Last edit by sxdjj
cearo
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那经常有Si,Al总量不错,而单个物质有差异的情况发生,不知大家是如何解决的?
hsteel
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原文由 cearo(cearo) 发表:
那经常有Si,Al总量不错,而单个物质有差异的情况发生,不知大家是如何解决的?

总量不错指的什么意思?是大多数情况下结果不错,偶尔有误差比较大的吗?你是熔片还是压片?
ljzllj
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不知是否用的是EDX,在WDX中使用PET晶体,Si和Al不会有干扰啊。
tyrantgqy
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总量不错。。。。不会使用了归一化法处理以后的数据吧。。。
至少目前看来WDX对耐才AL Si有成熟的测量方法的。
cearo
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是WDX压片法做的。是用归一法的,还有就是Si和Al的总量和理论值基本一致,而单个元素(Si,Al)的含量差别很大.
当然,这是我在准备自己做压片法标准曲线时的尝试中发现的问题。用压片法制样,以无标样软件测试其数据后,按理论配比加入95%SiO2,再压片法制样,再次使用无标样软件测试其数据,发现Si和Al的总量和理论值基本一致,而单个元素(Si,Al)的含量差别很大。
请问这是因为基体改变引起的,还是说元素间的干扰会加大?
cearo
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另外,我在做压片法的标准曲线。在建立曲线的过程中,以同一批理论标准品进行Al的标准曲线,看起来数据较为准确,标准曲线看起来也很好;而我将此批标准曲线同时做硅和铝的标准曲线时,二者都出现了比较大的波动,铝的标准曲线甚至出现了负斜率,请问各位大侠,这是什么原因?
ljzllj
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zhhp508
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cearo
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恩,应该是基体效应,不知道要怎么克服。而且要用压片法才好
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