主题:【求助】硅表面XPS,结合能平移

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houshan
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我做硅氢表面,先用HF处理,打了一张XPS,图中黑线,红色是未HF处理,而蓝线是硅氢与双键加成后的XPS,怎么发现Si 2p平移了?什么道理呢?
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xgq_2001
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有没有采集全谱,我怀疑是你的谱峰位置有整体飘移,有没有每校准?
houshan
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原文由 xgq_2001(xgq_2001) 发表:
有没有采集全谱,我怀疑是你的谱峰位置有整体飘移,有没有每校准?


应该校准过的,你可以看si-O处的位置向相反方向走.不知道什么原因
lslfangjian
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可能是硅相邻原子的电负性,对硅的电子结合能产生了影响。
feixiong5134
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应该是处理过程的原因:HF酸处理后,周围环境F会吸引Si的电子,所以HF处理后si的结合能最大。至于为啥硅氢与双键加成后向左迁移,我不会解释(应该也是电子的转移)

---------------个人之见
yuansu123456
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