主题:【讨论】试想一下,钨灯丝透射和场发射透射通过电子单色器后是不是有一样的色差了呢?

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longwood
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High resolution electron microscopy, John C.H. Spence (第三版)一书第4章 Coherence and Fourier optics 对光源的相干性及透射电镜成像的影响作了介绍。更一般的介绍可以看光学书或傅立叶变换光学书。

根据Van Cittert-Zernike 理论,空间相干性正比于源空间分布的傅立叶变换,时间相干性正比于源发射波数分布的傅立叶变化。

最简单理解相干性的方法就是杨氏双缝干涉实验。理想状态是一个点光源发射出单色光到达两个狭缝,两个狭缝作为二次子波源出射的两束波在屏上形成干涉条纹。

空间相干性指不是点光源,比如扩大成2个光源,每个光源发出的光在屏上各形成一套干涉条纹,且两套条纹的几何位置有一定的平移,当两套干涉条纹强度叠加后,衬度下降了。

时间相干性相类似。只是理解成仍然只有一个点光源,但是发射出两束波长不同的光,每束光各形成一套干涉条纹,由于波长不同,两套干涉条纹在屏上位置也稍有不同,因此叠加后条纹衬度也下降了。

一般对普通的相干成像,透射电镜的时间相干性不占主要影响。因为即使以热发射的钨灯丝为例,200KV的枪只有3V左右的能量波动,条纹移动只有10万分之一的距离。
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2010/8/27 13:03:36 Last edit by templus
penguinle
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原文由 fly-fall(fly-fall) 发表:
原文由 penguinle(penguinle) 发表:
你所说的理论上是成立的,但是实际上不可能。就像你买了4G的内存,放在你286的电脑上,有多大用处?光个corrector或者monochrometer就可能比你钨丝透镜贵了。再说了,钨丝本来亮度就弱很多,你在上mono,消调更多的光,你基本上就看不到什么了,呵呵。如果上个CC当然好,不过那玩意比Cs还贵。。。


楼上说的对,实践中光换灯丝就能折腾死...我这只是理论上探讨一下~~~~CC我了解到的原理上和energy filter是一样的,只不过构造上可能会更简单点吧,毕竟没有eneryg filter那么多的调节功能


CC和energy filter完全不一样的,EF是过滤左右,而CC类似Cs,delta E是不变的。构造上比EF复杂很多,价格比Cs一些,体积比Cs也大不少
fly-fall
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让您见笑了...装Cs和Cc的神物还没见过实物, 所以相关知识也就了解得比较少了...

原文由 penguinle(penguinle) 发表:
原文由 fly-fall(fly-fall) 发表:
原文由 penguinle(penguinle) 发表:
你所说的理论上是成立的,但是实际上不可能。就像你买了4G的内存,放在你286的电脑上,有多大用处?光个corrector或者monochrometer就可能比你钨丝透镜贵了。再说了,钨丝本来亮度就弱很多,你在上mono,消调更多的光,你基本上就看不到什么了,呵呵。如果上个CC当然好,不过那玩意比Cs还贵。。。


楼上说的对,实践中光换灯丝就能折腾死...我这只是理论上探讨一下~~~~CC我了解到的原理上和energy filter是一样的,只不过构造上可能会更简单点吧,毕竟没有eneryg filter那么多的调节功能


CC和energy filter完全不一样的,EF是过滤左右,而CC类似Cs,delta E是不变的。构造上比EF复杂很多,价格比Cs一些,体积比Cs也大不少
fly-fall
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还是不太明白, 请问为什么一定得出衬度下降的结论呢呢? 两束波的叠加会在有的位置造成增幅有的位置造成减幅, ,,并不一定会导致衬度的下降吧? 除非其相位正好相差了180度, 那就是减幅达到最大

quote]原文由 longwood(templus) 发表:
High resolution electron microscopy, John C.H. Spence (第三版)一书第4章 Coherence and Fourier optics 对光源的相干性及透射电镜成像的影响作了介绍。更一般的介绍可以看光学书或傅立叶变换光学书。

根据Van Cittert-Zernike 理论,空间相干性正比于源空间分布的傅立叶变换,时间相干性正比于源发射波数分布的傅立叶变化。

最简单理解相干性的方法就是杨氏双缝干涉实验。理想状态是一个点光源发射出单色光到达两个狭缝,两个狭缝作为二次子波源出射的两束波在屏上形成干涉条纹。

空间相干性指不是点光源,比如扩大成2个光源,每个光源发出的光在屏上各形成一套干涉条纹,且两套条纹的几何位置有一定的平移,当两套干涉条纹强度叠加后,衬度下降了。

时间相干性相类似。只是理解成仍然只有一个点光源,但是发射出两束波长不同的光,每束光各形成一套干涉条纹,由于波长不同,两套干涉条纹在屏上位置也稍有不同,因此叠加后条纹衬度也下降了。

一般对普通的相干成像,透射电镜的时间相干性不占主要影响。因为即使以热发射的钨灯丝为例,200KV的枪只有3V左右的能量波动,条纹移动只有10万分之一的距离。
longwood
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因为相比较的两种情况,光源发出的总的强度是一样的,可以想象成相当于两束从同一点源(同位相)和两束从分开一段距离发射(有位相差)的光的在屏幕上形成的明暗条纹的衬度,两种情况发射时的总的强度是一致的。

原文由 fly-fall(fly-fall) 发表:
还是不太明白, 请问为什么一定得出衬度下降的结论呢呢? 两束波的叠加会在有的位置造成增幅有的位置造成减幅, ,,并不一定会导致衬度的下降吧? 除非其相位正好相差了180度, 那就是减幅达到最大

quote]原文由 longwood(templus) 发表:
High resolution electron microscopy, John C.H. Spence (第三版)一书第4章 Coherence and Fourier optics 对光源的相干性及透射电镜成像的影响作了介绍。更一般的介绍可以看光学书或傅立叶变换光学书。

根据Van Cittert-Zernike 理论,空间相干性正比于源空间分布的傅立叶变换,时间相干性正比于源发射波数分布的傅立叶变化。

最简单理解相干性的方法就是杨氏双缝干涉实验。理想状态是一个点光源发射出单色光到达两个狭缝,两个狭缝作为二次子波源出射的两束波在屏上形成干涉条纹。

空间相干性指不是点光源,比如扩大成2个光源,每个光源发出的光在屏上各形成一套干涉条纹,且两套条纹的几何位置有一定的平移,当两套干涉条纹强度叠加后,衬度下降了。

时间相干性相类似。只是理解成仍然只有一个点光源,但是发射出两束波长不同的光,每束光各形成一套干涉条纹,由于波长不同,两套干涉条纹在屏上位置也稍有不同,因此叠加后条纹衬度也下降了。

一般对普通的相干成像,透射电镜的时间相干性不占主要影响。因为即使以热发射的钨灯丝为例,200KV的枪只有3V左右的能量波动,条纹移动只有10万分之一的距离。
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2010/8/27 21:15:11 Last edit by templus
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