主题：国内是金属所的电镜水平最高吗

原文由 bingoal 发表:
国内是金属所的电镜水平最高吗

各有所长吧，电镜的北方重镇是沈阳和北京。不在于哪个所，而在于哪些人。不过据说现在中科院所的人才被高校挖走的很多，实力有所均衡。

让gamexxp来给你讲讲吧，呵呵。

金属所实力确实很强
不过有点偏物理
侧重于结构分析
而化学则主要看尺寸、形貌等

这个问题很敏感！私下我可以跟你们口头谈，但是我不会网上公开评论的。叫郭先生来评论吧，他最有资格！
金属所的设备：
Tecnai G2 F30场发射枪透射电镜

HF 2000 冷场发射枪透射电镜

JEM 2010 高分辨电镜

JEM 2000 EXII 高分辨电镜

JEM 200CX 透射电镜

Gatan 691 PIPS等离子减薄仪4台

正电子寿命谱仪，

正电子湮没辐射多普勒展宽测量装置

Alpha、Sun、Dell工作站

纳米线生长制备

物理所设备
1
光学显微镜凹坑仪、超声打孔 制　样　设　备  05-11-4

2
Philips CM200/FEG场发射枪电镜 电 子 显 微 镜  05-11-4

3
LBS-2型离子薄化器 制　样　设　备  05-11-4

4
Gatan Model 691PIPS 减薄仪 制　样　设　备  05-11-4

5
日本产电解双喷仪 制　样　设　备  05-11-4

6
LBS-1型离子薄化器 制　样　设　备  05-8-8

7
Model 600氩离子减薄机 制　样　设　备  05-8-8

8
XL30 S-FEG扫描电镜(对外开放) 电 子 显 微 镜  05-8-8

9
Philips CM12透射电镜 电 子 显 微 镜  05-8-8

10
JEM-2010高分辨透射电镜（对外开放） 电 子 显 微 镜  05-8-8

11
Tecnai F20 super-twin 场发射枪透射/扫描透射电镜 电 子 显 微 镜  05-8-8

12
凹坑仪 制　样　设　备  04-9-8

13
尼康E400型生物显微镜 制　样　设　备  04-9-8

14
精密离子减薄仪 制　样　设　备  04-9-8

15
低角度离子薄化仪

汗，太庞大了，这不叫实验室，叫电镜仓库了，呵呵。

应该是国内最好的电镜展览馆了！

原文由 konglingdong 发表:
应该是国内最好的电镜展览馆了！

还可以叫电镜作坊，呵呵，不过这作坊的质量也太高了

其实国内说做电镜，研究电子显微学的，一般就从物理和材料来说，但真正能深入做下去的，也只有中科院所和一些大老板能有这个实力，其他学校的小作坊，主要是结合自己的专业特点，以应用的文章为主。
不管怎样，努力就有收获，技术员的过程总是有的，一旦悟道，就很有前途啊，大家努力！！！

原文由 konglingdong 发表:
应该是国内最好的电镜展览馆了！

还有，三分机器七分人，gamexxp列的只是硬件，如果列出来牛人名单，那才是真正的财富啊！

清华朱静组

1. Field Emission Gun Transmission Electron Microscope JEM-2010F

Point Resolution:0.23nm
Lattice Resolution:0.102nm

Max. Magnification: 1,500,000x

Acc. Voltage: 200kV

EDS, EELS, GIF, STEM, HAADF detector.
 
2 High Resolution Transmission Electron Microscope JEM-2011
 
3 Transmission Electron Microscope JEM-200CX



Point Resolution: 0.35nm

Lattice Resolution:0.14nm

Magnification: 900~650,000x

Acc. Voltage: 200kV
 
4 Ultrahigh Vacuum Scanning Probe Microscope JSPM-4500 
5  Field Emission Gun Scanning Electron Microscope JSM-6301F



Secondary Electron Resolution: 1.5nm

Back-scattering electron resolution: 6.0nm

Magnification: 10~250,000x

EDS (B5-U92)

6 EBSP (resolution better than 1 degree)
 
Pulsed Laser Deposition System



Excimer Laser (Compex 205)

Pulsed Laser Deposition Instrument(PLD-IV)



Wavelength: 248nm

Pulse Energy: >650mJ

Max. Rep. Rate: 50Hz

Ultimate Pressure: 6.6x10-5Pa

Highest Deposition Temp. : 800°C

Target Specification: Φ10~60mm, 5~6mm thick,solid.

 
 
JPG560C II Multi-function Ultra-high Vacuum Magnetron Sputtering



Target position: standing structure of multi-targets sputtering and 3 radiate-frequency targets in 5.

Specimen position: 6 positions consisting of 5 water-cooling and one heating.

Heater: non-gap ajusting ~400°C(≤±2°C)

Demension of specimen:≤Φ40mm

Anneal heater: non-gap ajusting ~800°C

Vacuum limit:Main: 5x10-6Pa