主题:【讨论】标准曲线法和基体匹配法的校准空白和试剂空白原则上应该是一样的?

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damoguyan
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在回网友基体匹配问题时发现这个疑问:标准曲线法和基体匹配法的校准空白和试剂空白原则上应该是一样的?这里单独讨论一下:
2个概念先统一一下:
校准空白:制作标准曲线时要扣除的空白
试剂空白:分析样品时要扣除的空白

1 基体匹配:如果你已经基体匹配了的话,校准空白和试剂空白使用一样的,如不加纯铁的酸液或者加纯铁的酸液;因为基体匹配的本质就是让标液和样品基体一样,那么它们相应的空白也应该一样,如果标液和样品扣除的空白不相同的话,那么同浓度目标元素的净强度就会不一样,测试就会偏差。
原来我试过基体匹配测试不锈钢中的NI,CR,MN,好像是用什么空白差别不大(浓度大,空白影响不了把。。。)

2标准曲线:平时一般的标准曲线法为什么有时会不一样呢,主要是我们认为样品不存在基体效应,只考虑了配制标液和消解样品的酸对目标元素的影响,然后分别减掉。如果配制标液用的酸和消解样品完全一样的话,2个空白就是一个了。

大家有什么其他意见?
另外在GCMS制作标准曲线时好像从来没有扣除过稀释用试剂的空白呢,一般软件也没这个功能,好像?。。。
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原文由 小鬼当家(joyboy123) 发表:
gc-ms 我们是自己手动计算扣除空白


那样不是有点费事,每次都要手动计算
广结善缘
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消解样品的试剂空白 中加基体,岂不是也要在样品中加基体吗?
zzcl123
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原文由 小鬼当家(joyboy123) 发表:
gc-ms 我们是自己手动计算扣除空白

请问怎样手动计算扣除空白?
hbmy2008hbmy
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其实个人认为:
校准空白也就是标液的空白,做标曲时要做的,也可以认为是标液的零点;
试剂空白也就是样品的空白,在实际分析中很难做到两个空白的基体一致,因为所购的标液的基体也就是介质不一样。所以二者不是一个概念,这个也就是为什么仪器检出限和方法检出限不是一回事一样。
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